[发明专利]一种荷正电纳滤膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410730312.8 | 申请日： | 2014-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN105709619B | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 朱宝库;王纳川;崔月;肖玲;赵斌;王俊;陈良刚;陈清 | 申请（专利权）人： | 海南立昇净水科技实业有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/44 | 分类号： | B01D71/44;B01D71/40;B01D67/00;B01D69/02 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 刘晓春 |
| 地址： | 571126 海*** | 国省代码： | 海南;46 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电纳 滤膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种荷正电纳滤膜，其特征在于：所述纳滤膜的材料为共聚物A的自交联产物，或者含氯聚合物B与叔胺型聚合物C共混交联的产物，交联产物中的交联基团为氯化季铵盐基团，其中，
所述共聚物A的结构式如下：
式中：m+n＝800～5000；
m/n＝10/1～1/1；
R1＝H或Cl；
R2＝H或CH3；
R3＝含叔胺基团；
所述含氯聚合物B的结构式如下：
式中：
R1＝H或Cl；
x＝800～5000；
所述叔胺型聚合物C的结构式如下：
式中：
R2＝H或CH3；
R3＝含叔胺基团；
y＝800～5000；
所述荷正电纳滤膜的制备方法选自以下方法的任意一种：
方法1：所述荷正电纳滤膜的制备方法包括如下步骤：
(1)将共聚物A溶解在制膜溶剂中，加入季铵化抑制剂，混合均匀制成制膜液，通过溶液相转化法从凝固浴中固化，制备成活性前体膜；
(2)将步骤(1)制得的活性前体膜热处理，得到荷正电纳滤膜；
所述共聚物A的结构式如下：
式中：m+n＝800～5000；
m/n＝10/1～1/1；
R1＝H或Cl；
R2＝H或CH3；
R3＝含叔胺基团；
方法2：所述荷正电纳滤膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)将含氯聚合物B和叔胺型聚合物C溶解在制膜溶剂中，加入季铵化抑制剂，混合均匀制成制膜液，通过溶液相转化法从凝固浴中固化，制备成活性前体膜；
(2)将步骤(1)制得的活性前体膜热处理，得到荷正电纳滤膜；
所述含氯聚合物B的结构式如下：
式中：
R1＝H或Cl；
x＝800～5000；
所述叔胺型聚合物C的结构式如下：
式中：
R2＝H或CH3；
R3＝含叔胺基团；
y＝800～5000。
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