[发明专利]一种涡旋壁氧化装置

权利要求书

1.一种涡旋壁氧化装置，其特征在于，包括：

一定涡旋盘，其具有一从该定涡旋盘上表面朝向该定涡旋盘下表面轴向延伸的涡旋壁；

一局部氧化工装，其相对于该定涡旋盘的外形开设有一内凹的容置空间，用以容置并对外封闭该定涡旋盘，其中，该容置空间具有一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。

2.根据权利要求1所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该定涡旋盘进一步包括复数个卡槽，设置于该涡旋壁外侧，该局部氧化工装卡设于该些卡槽中。

3.根据权利要求2所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装进一步包括复数个密封凸台，该密封凸台对应该卡槽设置且与该卡槽相互嵌合，且该密封凸台与该卡槽为过盈配合。

4.根据权利要求1所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装包括一凹形框体及一设置于该凹形框体上方的端盖，其中该凹形框体用以容置该定涡旋盘；该端盖用以封闭该凹形框体，并对应该涡旋壁形成一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。

5.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装为弹性材料制成，且该凹形框体与该端盖为一体成型。

6.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该端盖可拆卸式设置在该凹形框体上。

7.根据权利要求6所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该端盖与该凹形框体通过螺丝固定。

8.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：进一步包括一氧化槽，该氧化槽中具有电解液，该电解液用以对容置在该局部氧化工装中的定涡旋盘的该涡旋壁进行氧化。

9.根据权利要求8所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：进一步包括一水冷却循环装置，用以对氧化过程中的定涡旋盘进行冷却降温。

10.根据权利要求9所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该凹形框体上具有一进水口，一出水口，及一绕设在该凹形框体内部的流道，该流道连通该进水口及该出水口。