[发明专利]鳍状结构及其制造方法

权利要求书

1.一种形成鳍状结构的方法，包含有：

提供一基底，具有第一鳍状结构，位于一第一区；以及第二鳍状结构位于一第二区；

分别填入一绝缘结构于该第一区的该第一鳍状结构侧边以及该第二区的该第二鳍状结构侧边；

形成一图案化掩模，覆盖该第一区但暴露出该第二区；

移除该第二区的该绝缘结构的一顶部，因而暴露出该第二鳍状结构的一第一顶部；

进行一处理制作工艺，将该第二鳍状结构的该第一顶部的一外表面改质，因而形成一改质部，覆盖该第二鳍状结构的该第一顶部；

移除该图案化掩模；以及

进行一移除制作工艺，经由对于该第一鳍状结构以及该第二鳍状结构与对于该改质部以及该绝缘结构的高移除选择比，而移除该绝缘结构的一部分以及该改质部，因而暴露出该第一鳍状结构的一顶部以及该第二鳍状结构的一第二顶部。

2.如权利要求1所述的形成鳍状结构的方法，其中该绝缘结构包含氧化物，且该改质部包含氧化物。

3.如权利要求1所述的形成鳍状结构的方法，其中该处理制作工艺包含一氧化制作工艺。

4.如权利要求3所述的形成鳍状结构的方法，其中该处理制作工艺包含一含氧气的制作工艺或一原位蒸汽产生制作工艺。

5.如权利要求1所述的形成鳍状结构的方法，其中该移除制作工艺包含一含氨及三氟化氮的蚀刻制作工艺。