[发明专利]应用于触控技术的金属网格结构、其制作方法及导电膜

说明书

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，具体涉及一种应用于触控技术的金属网格结构、其制作方法及导电膜。

背景技术

电容式触摸屏是利用人体的电流感应进行工作的，是一种通过电极和人体特性结合来感应触摸信号的触摸屏。传统技术采用透明导电薄膜图案化作为导电线路，但在向中大尺寸(≥6inch)拓展时会存在感应电流通过透明导电层的线阻过大，这样电容式触摸屏与人体手指之间所产生的微弱电流也就很难快而准确地传输到IC芯片，很难适用于触摸屏的使用要求。

由于金属导线的金属网格技术能够降低电阻，增加触摸响应速度；且在搭配柔性屏时，金属网格技术更适应弯折等技术要求，因此，现在普遍采用金属网格技术作为线栅阵列。

在开发应用于AMOLED的触摸屏时，一般采用on cell(触摸屏嵌入)结构；一般的制程先是形成金属网格，接着在金属网格上沿图案化一方向的金属后再覆盖整面SiOx；再沿图案化另一方向的金属后覆盖整面的SiOx；由此可以看出现有的金属网格导线的制程流程长，成本高。

发明内容

为克服现有技术所存在的缺陷，现提供一种应用于触控技术的金属网格结构、其制作方法及导电膜，以解决现有的金属网格导线的制程流程长，成本高的问题。

为实现上述目的，一种应用于触控技术的金属网格结构，包括由导电金属形成的金属网格导线和位于所述金属网格导线表层的金属氧化物绝缘层，所述金属氧化物绝缘层和所述金属网格导线包括有相同金属元素。

本发明金属网格结构的进一步改进在于，所述金属网格导线包括第一方向导线和与所述第一方向导线交叉设置的第二方向导线。

本发明金属网格结构的进一步改进在于，所述导电金属为钛金属，所述金属氧化物绝缘层为二氧化钛。

本发明还提供一种导电膜，包括基片、以及设于所述基片表面的导电层，所述导电层包括上述的金属网格结构。

本发明导电膜的进一步改进在于，所述基片包括第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面相对设置；所述导电层设于所述基片的第一表面。

本发明导电膜的进一步改进在于，所述基片的第一表面设有基质层，所述导电层嵌设于所述基质层中。

本发明还提供一种应用于触控技术的金属网格结构的制造方法，包括：

利用导电金属形成金属网格导线；

进行氧化处理，使得所述金属网格导线中的导电金属与氧气反应后在表面形成金属氧化物绝缘层。

本发明制造方法的进一步改进在于，利用导电金属形成金属网格导线进一步包括：

沿第一方向形成第一方向导线；

沿第二方向形成第二方向导线，所述第二方向导线与所述第一方向导线交叉设置。

本发明制造方法的进一步改进在于，形成金属氧化物绝缘层进一步包括以下步骤：

在沿所述第一方向形成所述第一方向导线之后且沿所述第二方向形成所述第二方向导电金属之前，氧化所述第一方向导线，使得所述第一方向导线的表面氧化形成所述金属氧化物绝缘层；

在沿所述第二方向形成所述第二方向导线之后，氧化所述第二方向导线，使得所述第二方向导线的表面氧化形成所述金属氧化物绝缘层。

本发明制造方法的进一步改进在于，氧化形成金属氧化物绝缘层进一步包括以下步骤：

提供空气氧化炉；

在所述空气氧化炉内对所述金属网格导线进行氧化；

通过调节所述空气氧化炉内的氧气含量控制所述金属氧化物绝缘层的厚度。

本发明的有益效果在于，在金属网格导线表面覆盖由该导电金属与氧气反应产生的导电金属氧化物作为绝缘层，从而不用覆盖其它如SiOx等材料作为绝缘层，并且可以通过在玻璃基片的烧结制程中氧化导电金属，从而降低了成本，简化了金属网格导线的制程流程。

附图说明

图1为本发明金属网格结构示意图；

图2为图1中A-A位置的金属网格结构剖视图；

图3为本发明导电膜结构示意图；

图4为图3中B-B位置的导电膜剖视图；

图5为本发明金属网格结构的制造方法流程图。

具体实施方式

为利于对本发明的结构的了解，以下结合附图及实施例进行说明。