[发明专利]应用于触控技术的金属网格结构、其制作方法及导电膜有效

专利信息
申请号: 201410443358.1 申请日: 2014-09-02
公开(公告)号: CN104238813B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 鲁佳浩;寇浩;亢澎涛 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司31229 代理人: 曾耀先
地址: 201508 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 应用于 技术 金属 网格 结构 制作方法 导电
【权利要求书】:

1.一种应用于触控技术的金属网格结构,其特征在于,包括由导电金属形成的金属网格导线和位于所述金属网格导线表层的金属氧化物绝缘层,所述金属氧化物绝缘层和所述金属网格导线包括有相同金属元素;所述金属网格导线中的导电金属与氧气在空气氧化炉中反应后在表面形成所述金属氧化物绝缘层;

其中,所述金属网格导线包括第一方向导线和与所述第一方向导线交叉设置的第二方向导线,所述第一方向导线的表面氧化形成金属氧化物绝缘层,所述第二方向导线的表面氧化形成金属氧化物绝缘层。

2.根据权利要求1所述的金属网格结构,其特征在于,所述导电金属为钛金属,所述金属氧化物绝缘层为二氧化钛。

3.一种导电膜,其特征在于,包括基片、以及设于所述基片表面的导电层,所述导电层包括权利要求1至2中任一项所述的金属网格结构;在基片的烧结制程中提供的空气氧化炉内对金属网格导线进行氧化,形成金属氧化物绝缘层。

4.根据权利要求3所述的导电膜,其特征在于,所述基片包括第一表面和第二表面,所述第一表面和所述第二表面相对设置;所述导电层设于所述基片的第一表面。

5.根据权利要求4所述的导电膜,其特征在于,所述基片的第一表面设有基质层,所述导电层嵌设于所述基质层中。

6.一种应用于触控技术的金属网格结构的制造方法,其特征在于,包括:

利用导电金属形成金属网格导线;

进行氧化处理,使得所述金属网格导线中的导电金属与氧气反应后在表面形成金属氧化物绝缘层;

其中,氧化形成金属氧化物绝缘层进一步包括以下步骤:

提供空气氧化炉;

在所述空气氧化炉内对所述金属网格导线进行氧化;

通过调节所述空气氧化炉内的氧气含量控制所述金属氧化物绝缘层的厚度;

进一步地,利用导电金属形成金属网格导线进一步包括:

沿第一方向形成第一方向导线;

沿第二方向形成第二方向导线,所述第二方向导线与所述第一方向导线交叉设置;

形成金属氧化物绝缘层进一步包括以下步骤:

在沿所述第一方向形成所述第一方向导线之后且沿所述第二方向形成所述第二方向导电金属之前,氧化所述第一方向导线,使得所述第一方向导线的表面氧化形成所述金属氧化物绝缘层;

在沿所述第二方向形成所述第二方向导线之后,氧化所述第二方向导线,使得所述第二方向导线的表面氧化形成所述金属氧化物绝缘层。

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