[发明专利]一种纳米/微米金膜及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米/微米金膜，其特征在于，包括基质和纳米/微米金层，所述纳米/微米金属层由金属纳米颗粒沉积而成，所述基质表面具有氨基，所述金属纳米颗粒与所述基质表面氨基形成强相互作用，使得所述纳米/微米金层牢固附着在所述基质表面。

2.如权利要求1所述的纳米/微米金属膜，其特征在于，所述基质为不吸水的致密膜，优选为聚二甲基硅氧烷、玻璃、氧化铟锡导电玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜。

3.如权利要求1或2所述纳米/微米金属膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)基质表面处理：将基质表面进行氧等离子处理或紫外光照射，使得基质表面产生氧化的活性基团，获得表面活化的基质；

(2)基质表面氨基化：将步骤(1)中获得的表面活化的基质，浸入3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中，进行氨基化处理，获得表面氨基化的基质；

(3)沉积金属膜：取氯金酸和强碱的碳酸氢盐的混合溶液与葡萄糖溶液均匀混合，并涂布于步骤(2)中获得的表面氨基化的基质上，使得每1cm2上分布有金元素3.58×10^-5g至2.87×10^-3g和葡萄糖7.5×10^-4g至3×10^-3g，20℃至40℃下，避光反应2小时至4小时后洗涤干燥，得到所述纳米/微米金属膜。

4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述基质为不吸水的致密膜，优选为聚二甲基硅氧烷、玻璃、氧化铟锡导电玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，当所述基质为聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜时，基质表面处理采用紫外光照射。

6.如权利要求3至5任意一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述氧等离子处理时间为3分钟至5分钟，所述紫外光照射，其紫外光强度为90uW/cm至180uW/cm，照射时间为40分钟至90分钟。

7.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)的具体操作为：

将步骤(1)中获得的表面活化的基质，浸入3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中，反应30分钟至120分钟，用去离子水洗涤后干燥。

8.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)涂布的具体方法为，在步骤(2)中获得的表面氨基化的基质上可逆键合一个中间具有凹槽的聚二甲基硅氧烷(PDMS)块，所述凹槽用以盛放沉积溶液。

9.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述氯金酸和强碱的碳酸氢盐的混合溶液，其中氯金酸浓度在10^-3g/ml至2×10^-2g/ml之间，碳酸氢根的浓度在0.15mol/L至0.5mol/L。