[发明专利]自适应光掩模及其使用方法

说明书

本发明公开了一种自适应光掩模及其使用方法。这里所描述的实施例涉及利用光掩蔽处理对基板进行掩蔽的方法、设备和系统。描述了一种被配置成根据基板上的表面特征的规格生成光掩蔽图案的自适应光掩模。所述自适应光掩模可以被用来创建对应于各个单独基板的定制光掩模图案。这里所描述的方法和设备可以被使用在其中制造由于内在容差而具有微小差异的类似部件的制造处理中。这里所描述的方法和设备还可以被使用在涉及掩蔽部件的三维部分的制造处理中。描述了一种包括用于扫描基板表面的平移机制的光掩蔽系统。

技术领域

所描述的实施例总体上涉及在消费产品的制造中所使用的光掩模和光掩蔽技术。更具体来说，描述了容许在消费产品的制造过程中累积的容差的光掩模和光掩蔽技术。

背景技术

光掩模通常是不透明的平板，其具有孔洞或透明处从而允许光按照已定义的图案照射透过。光掩模通常被使用在光刻和表面精加工处理中，以便把光的几何图案转移到基板表面上的光敏化学光致抗蚀剂上。随后对基板进行化学处理，以便去除暴露于光或者未暴露于光的光致抗蚀剂部分，这取决于所使用的光致抗蚀剂的类型。保留在基板表面上的经过模制的光致抗蚀剂随后可以在例如沉积、蚀刻或鼓风处理之类的任何表面处理规程期间充当掩模。在光致抗蚀剂被去除之后，基板表面上留下经过处理和未经处理的区段的图案。

在某些情况下，基板表面可以包括一项或多项表面特征，比如设计和镶嵌。在某些情况下，所述特征可能位于角落和边缘。这些表面特征具有限定所述表面特征的边界。在其中生产多个类似部件的制造环境中，由于制造处理的内在容差，所述特征的规格可能对于不同部件有所不同。但是在传统的光掩蔽技术中，印在光掩模上的图案是固定的，并且不会容许由于制造容差而导致的所述特征的任何规格差异。这可能最终导致其表面上的经过处理和未经处理的区段的图案与表面特征的边界失配的部件。这些失配的边界可能会明显地不美观，特别在其处于消费产品的外表面上时尤其如此。

发明内容

本文描述了涉及对基板实施光掩蔽的各个实施例。光掩蔽规程可以在光刻、光蚀刻或其他表面处理规程之前发生。所描述的方法可用于为在生产线中制造的单一部件或一系列部件提供定制光掩模图案。

根据一个实施例，描述了一种用于使用可配置孔径动态地激活布置在基板表面上并且与至少一项表面特征相关联的光致抗蚀剂层的相应部分的方法。所述方法涉及接收与所述至少一项表面特征相关联的规格数据集合。所述规格数据包括对应于所述至少一项表面特征的边界的数据。所述方法还涉及根据所接收到的规格数据调节所述可配置孔径的透射部分的尺寸和形状。所述透射部分允许被用来激活光致抗蚀剂层的相应部分的能量穿过。

根据另一个实施例，描述了一种用于使用自适应光掩模动态地激活布置在第一部件上的第一光致抗蚀剂层和布置在第二部件上的第二光致抗蚀剂层的一部分的方法。第一部件具有第一表面特征，并且第二部件具有第二表面特征。所述方法包括接收与第一特征相关联的第一规格数据集合。第一规格数据集合包括对应于第一特征的第一特征边界的数据。所述方法还包括根据所接收到的第一规格数据集合调节所述自适应光掩模的透射部分的尺寸和形状。所述透射部分允许被用来激活对应于第一特征的光致抗蚀剂层的一部分的能量穿过。所述方法还包括接收与第二特征相关联的第二规格数据集合。第二规格数据集合包括对应于第二特征的第二特征边界的数据，其中第二规格数据集合不同于第一规格数据集合。所述方法还包括根据所接收到的第二规格数据集合调节所述自适应光掩模的透射部分的尺寸和形状。所述透射部分允许被用来激活对应于第二特征的光致抗蚀剂层的一部分的能量穿过。