[发明专利]触控窗以及包括该触控窗的触控装置

权利要求书

1.一种触控窗，所述触控窗包括：

包括有效区域和无效区域的基板；

感测电极，所述感测电极设置在所述基板的所述有效区域上，用于感测位置；

布线部，用于电连接所述感测电极；以及

位于所述布线部的端部的电极焊盘，

其中，多个所述布线部设置在所述基板的所述无效区域上；

其中，所述布线部包括主图案和邻近所述主图案的多个附加图案；以及

在所述主图案上的导电层，

其中，所述多个附加图案设置在所述主图案之间，

其中，所述附加图案的延伸长度比所述导电层的延伸长度长，

其中，所述多个附加图案设置在相邻的两个电极焊盘之间，其中所述主图案的线宽大于所述附加图案的线宽，

其中，所述主图案的所述导电层的线宽大于所述附加图案的所述线宽，

其中，所述附加图案之间的距离等于或小于所述附加图案的所述线宽，

其中，所述主图案的所述线宽在1μm以至100μm的范围内，

其中，所述主图案之间的距离在1μm以至100μm的范围内，

其中，所述附加图案的所述线宽在50nm以至300nm的范围内，

其中，所述导电层的端部设置在所述主图案的侧表面的一部分上，

其中，电极层包围所述主图案的上表面和所述侧表面。

2.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述主图案为凸形或凹形。

3.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述主图案包括沿第一方向延伸的第一延伸部；以及

沿第二方向延伸的第二延伸部。

4.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述附加图案沿一个方向延伸。

5.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述导电层包括Cu、Au、Ag、Al、Ti、Ni或它们的合金。

6.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述主图案包括导电图案。

7.根据权利要求6所述的触控窗，其中，所述主图案的所述导电图案的线宽在0.5μm至5μm的范围内。

8.根据权利要求6所述的触控窗，其中，所述主图案的所述导电图案的线宽大于所述附加图案的线宽。

9.根据权利要求1所述的触控窗，其中，所述主图案与所述附加图案交叉。

10.一种触控窗，包括：

包括有效区域和无效区域的基板；

感测电极，所述感测电极设置在所述基板的所述有效区域上，用于感测位置；

布线部，用于电连接所述感测电极；以及

位于所述布线部的端部的电极焊盘，

其中，多个所述布线部设置在所述基板的所述无效区域上，

其中，多个所述布线部包括具有互不相同的方向的第一延伸部和第二延伸部，

其中，所述第一延伸部和所述第二延伸部包括主图案；以及

在所述主图案上的导电层，

其中，所述布线部包括多个附加图案，

其中，所述多个附加图案设置在相邻的两个第一延伸部之间，

其中，所述多个附加图案设置在相邻的两个第二延伸部之间，并且

其中，所述附加图案沿着与所述第一延伸部或所述第二延伸部的方向相同的方向延伸，

其中，所述附加图案的延伸长度比所述第一延伸部或所述第二延伸部的延伸长度长，

其中，所述多个附加图案设置在相邻的两个电极焊盘之间，

其中，所述主图案的线宽在1μm以至100μm的范围内，

其中，所述主图案之间的距离在1μm以至100μm的范围内，

其中，所述附加图案的线宽在50nm以至300nm的范围内，

其中，所述主图案的所述导电层的线宽大于所述附加图案的所述线宽，

其中，所述附加图案之间的距离等于或小于所述附加图案的所述线宽。