[发明专利]显示设备及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410366681.3 申请日: 2014-07-29
公开(公告)号: CN104347816A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 张龙圭;郑仓龙 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;阴亮
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 显示 设备 及其 制造 方法
【说明书】:

相关申请

本申请要求于2013年8月1日向韩国知识产权局提交的第10-2013-0091582号韩国专利申请的权益,所述申请的公开内容以援引方式整体并入本文。

背景

1.领域

本发明涉及显示设备及其制造方法。

2.相关技术描述

显示设备可以包括显示单元,其包括发射层并由此可以是自发射的。显示单元可能需要与显示设备周围的环境充分分开。例如,有机发光显示设备可以包括有机发光装置,其包括空穴注入电极、电子注入电极和布置在所述电极之间并配置为发光的有机发射层。有机发光装置可能需要被密封以免于有机发光显示设备周围的环境中的水分、氧等。

概述

本发明的实施方案可以涉及显示装置(例如,有机发光显示设备),其包括显示单元并具有用于有效保护所述显示单元免于水分的封装结构。本发明的实施方案可以涉及用于制造所述显示装置的方法。

本发明的实施方案可以涉及可包括衬底的显示设备。所述显示设备可以还包括显示单元,其包括发射层(例如,有机发光层)并布置在所述衬底上。显示设备可以还包括重叠所述显示单元的第一保护层。所述显示设备可以还包括布置在所述显示单元与所述第一保护层之间的第一有机层。所述第一有机层的表面积可以等于或小于所述第一保护层的表面积。

所述第一有机层的顶表面积可以基本等于所述第一保护层的顶表面积。

第一有机层的侧表面可以与第一保护层的侧表面齐平和/或与第一保护层的侧表面对齐。

第一保护层可以由可包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)和铝氧化物(Al2O3)中至少之一的材料形成。

显示设备可以包括覆盖第一保护层的第一无机层。

所述第一无机层可以直接接触所述衬底、所述第一保护层和所述第一有机层。

所述第一保护层可以不直接接触衬底。

所述第一保护层的顶表面积可以小于所述第一无机层的顶表面积。

所述显示设备可以包括第二无机层,其可以重叠所述第一无机层。所述显示设备可以还包括布置在所述第一无机层与所述第二无机层之间的第二有机层。

所述显示设备可以包括布置在所述第二无机层与所述第二有机层之间的第二保护层。第二无机层可以直接接触所述第一无机层、所述第二有机层和所述第二保护层。

所述显示设备可以包括布置在所述显示单元与所述第一有机层之间的金属层。

所述金属层接触所述第一有机层的至少两个表面。所述两个表面可以彼此呈小于180度的角。

所述金属层可以包含锂氟化物(LiF)和铝氧化物(AlOx)中至少之一。

本发明的实施方案可以涉及可包括以下部件的显示设备:衬底;包括发射层并布置在所述衬底上的显示单元;覆盖所述显示单元的无机层;布置在所述显示单元与所述无机层之间的保护层;以及布置在所述显示单元与所述保护层之间的有机层。所述无机层可以接触所述保护层和所述有机层。

本发明的实施方案可以涉及制造显示设备的方法。所述方法可以包括以下步骤:在衬底上形成显示单元,所述显示单元包括发射层;形成重叠所述显示单元和所述衬底的第一有机材料层;形成覆盖所述第一有机材料层的第一部分而不覆盖所述第一有机材料层的第二部分的第一保护层;以及将所述第一保护层用作掩膜来除去所述第一有机材料层的第二部分,从而形成第一有机层,所述第一有机层对应于所述第一有机材料层的第一部分,其中所述显示设备包括所述第一保护层。

所述方法可以包括以下步骤:形成第一无机层,以使所述第一无机层与所述衬底和所述第一保护层接触,其中所述第一保护层和所述第一有机层可以布置在所述衬底与所述第一无机层之间。

所述方法可以包括以下步骤:在所述第一无机层上形成第二有机材料层;形成第二保护层,所述第二保护层覆盖所述第二有机材料层的第一部分而不覆盖所述第二有机材料层的第二部分;以及将所述第二保护层用作掩膜来除去所述第二有机材料层的第二部分,从而形成第二有机层,所述第二有机层对应于所述第二有机材料层的第一部分,其中所述显示设备包括所述第二保护层。

所述方法可以包括以下步骤:形成第二无机层,所述第二无机层接触所述第一无机层和所述第二保护层,其中所述第二保护层和所述第二有机层可以布置在所述第一无机层与所述第二无机层之间。

所述方法可以包括以下步骤:在形成所述第一有机材料层的步骤之前,形成覆盖所述显示单元的金属层。

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