[发明专利]显示设备及其制造方法

权利要求书

1.显示设备，其包括：

衬底；

包括发射层并布置在所述衬底上的显示单元；

重叠所述显示单元的第一保护层；以及

布置在所述显示单元与所述第一保护层之间的第一有机层，其中所述第一有机层的顶表面积等于或小于所述第一保护层的顶表面积。

2.如权利要求1所述的显示设备，其中所述第一有机层的顶表面积等于所述第一保护层的顶表面积。

3.如权利要求1所述的显示设备，其中所述第一有机层的侧表面与所述第一保护层的侧表面齐平。

4.如权利要求1所述的显示设备，其中所述第一保护层包含硅氮化物(SiN_x)、硅氧化物(SiO_x)和铝氧化物(Al₂O₃)中至少之一。

5.如权利要求1所述的显示设备，其还包括覆盖所述第一保护层的第一无机层。

6.如权利要求5所述的显示设备，其中所述第一无机层接触所述衬底和所述第一保护层。

7.如权利要求6所述的显示设备，其中所述第一保护层不直接接触所述衬底。

8.如权利要求5所述的显示设备，其中所述第一保护层的顶表面积小于所述第一无机层的顶表面积。

9.如权利要求5所述的显示设备，其还包括：

重叠所述第一无机层的第二无机层；以及

布置在所述第一无机层与所述第二无机层之间的第二有机层。

10.如权利要求9所述的显示设备，其还包括布置在所述第二无机层与所述第二有机层之间的第二保护层，其中所述第二无机层接触所述第一无机层和所述第二保护层。

11.如权利要求1所述的显示设备，其还包括布置在所述显示单元与所述第一有机层之间的金属层。

12.如权利要求11所述的显示设备，其中所述金属层接触所述第一有机层的至少两个表面。

13.如权利要求11所述的显示设备，其中所述金属层包含锂氟化物(LiF)和铝氧化物(AlO_x)中至少之一。

14.显示设备，其包括：

衬底；

包括发射层并布置在所述衬底上的显示单元；

覆盖所述显示单元的无机层；

布置在所述显示单元与所述无机层之间的保护层；以及

布置在所述显示单元与所述保护层之间的有机层，

其中所述无机层接触所述保护层和所述有机层。

15.制造显示装置的方法，所述方法包括：

在衬底上形成显示单元，所述显示单元包括发射层；

形成重叠所述显示单元和所述衬底的第一有机材料层；

形成覆盖所述第一有机材料层的第一部分而不覆盖所述第一有机材料层的第二部分的第一保护层；以及

将所述第一保护层用作掩膜来除去所述第一有机材料层的所述第二部分以形成第一有机层，所述第一有机层对应于所述第一有机材料层的所述第一部分，其中所述显示设备包括第一保护层。

16.如权利要求15所述的方法，其还包括：形成第一无机层，使所述第一无机层接触所述衬底和所述第一保护层，其中所述第一保护层和所述第一有机层布置在所述衬底与所述第一无机层之间。

17.如权利要求16所述的方法，其还包括：

在所述第一无机层上形成第二有机材料层；

形成第二保护层，所述第二保护层覆盖所述第二有机材料层的第一部分而不覆盖所述第二有机材料层的第二部分；以及

将所述第二保护层用作掩膜来除去所述第二有机材料层的所述第二部分以形成第二有机层，所述第二有机层对应于所述第二有机材料层的所述第一部分，其中所述显示设备包括所述第二保护层。

18.如权利要求17所述的方法，其还包括：形成第二无机层，所述第二无机层接触所述第一无机层和所述第二保护层，其中所述第二保护层和所述第二有机层布置在所述第一无机层与所述第二无机层之间。

19.如权利要求15所述的方法，其还包括：在形成所述第一有机材料层之前，形成覆盖所述显示单元的金属层。

20.如权利要求19所述的方法，其中所述金属层接触所述显示单元的至少两个侧面。