[发明专利]存储器的操作方法有效

专利信息
申请号: 201410353625.6 申请日: 2014-07-23
公开(公告)号: CN105448345B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 黄正乙;杨家奇;黄正太;陈先敏 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G11C17/16 分类号: G11C17/16;G11C17/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华;吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器 操作方法
【说明书】:

一种存储器的操作方法,存储器包括至少一个存储单元,存储单元包括N个第一晶体管和熔丝,存储器的操作方法包括:提供复制单元,复制单元包括N个第二晶体管和第一电阻,第一电阻的第一端连接N个第二晶体管的第一端,N个第二晶体管的第二端接地,第二晶体管的第一端和第二端分别为源极和漏极,第一晶体管和第二晶体管尺寸相同,第一电阻与熔丝阻值相同;施加编程电流至第一电阻的第二端;获得使第一电阻的第二端电压值处于预设电压范围时处于导通状态的第二晶体管的数量M,M≤N;对存储器单元执行编程操作时,施加编程电流至熔丝的第二端,并控制执行编程操作的存储单元中的M个第一晶体管处于导通状态。

技术领域

发明涉及一种存储器领域,尤其涉及存储器的操作方法。

背景技术

熔丝(efuse)技术是根据多晶硅熔丝特性发展起来的一种技术。熔丝的初始电阻值很小,当有大电流经过熔丝时,熔丝被熔断,其电阻值倍增。因此,由熔丝构成的储存单元以判断熔丝是否被熔断来得知其内部储存的数据。

如图1所示,现有熔丝存储器包括:呈m行n列排列的存储单元。所述存储单元包括:1个第一晶体管和熔丝。

位于第1行1列的存储单元中,熔丝f1的第一端连接第一晶体管M11的第一端。第一晶体管M11的第二端接地GND。其他存储单元与位于第1行1列的存储单元结构相同,此处不再赘述。

当对熔丝f1的第二端施加编程电压时,电流流过熔丝f1和处于导通状态的第一晶体管M11。流过熔丝f1的电流足够大且持续时间足够长,则熔丝f1被熔断,该编程操作过程视为将数据“1”编程至该存储单元中。即熔丝被熔断的存储单元视为保存了数据“1”,而熔丝未被熔断的存储单元视为保存了数据“0”。

存储单元中的熔丝被熔断后无法再进行编程操作,所以存储单元只能执行一次编程操作。然而,存储单元容易出现编程失败,即执行编程操作之后熔丝仍未被熔断,这导致存储单元保存的数据出现错误,从而读取结果错误,存储器的生产良率变低。

发明内容

本发明解决的问题是现有存储器的生产良率较低。

为解决上述问题,本发明提供一种存储器的操作方法,所述存储器包括至少一个存储单元,所述存储单元包括N个第一晶体管和熔丝,N>1,所述熔丝的第一端连接所述N个第一晶体管的第一端,所述N个第一晶体管的第二端接地,所述第一晶体管的第一端和第二端分别为源极和漏极,所述存储器的操作方法包括:

提供复制单元,所述复制单元包括N个第二晶体管和第一电阻,所述第一电阻的第一端连接所述N个第二晶体管的第一端,所述N个第二晶体管的第二端接地,所述第二晶体管的第一端和第二端分别为源极和漏极,所述第一晶体管和第二晶体管尺寸相同,所述第一电阻与熔丝阻值相同;

施加编程电流至所述第一电阻的第二端;

获得使所述第一电阻的第二端电压值处于预设电压范围时处于导通状态的第二晶体管的数量M,M≤N;

对存储器单元执行编程操作时,施加所述编程电流至所述熔丝的第二端,并控制所述执行编程操作的存储单元中的M个第一晶体管处于导通状态。

可选的,所述获得使所述第一电阻的第二端电压值处于预设电压范围时处于导通状态的第二晶体管的数量M包括:

测量所述第一电阻的第二端电压值,在所述第一电阻的第二端电压值小于所述预设电压范围中的最小值时,增加处于导通状态的第二晶体管的数量M。

可选的,所述获得使所述第一电阻的第二端电压值处于预设电压范围时处于导通状态的第二晶体管的数量M包括:

测量所述第一电阻的第二端电压值,在所述第一电阻的第二端电压值大于所述预设电压范围中的最大值时,增加处于导通状态的第二晶体管的数量M。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410353625.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top