[发明专利]分析导体瞬态电磁散射特性的时域高阶Nystrom方法在审
| 申请号: | 201410305523.7 | 申请日: | 2014-06-28 | 
| 公开(公告)号: | CN105224780A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 | 
| 发明(设计)人: | 陈如山;丁大志;樊振宏;曹军 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 | 
| 主分类号: | G06F19/00 | 分类号: | G06F19/00 | 
| 代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 朱显国 | 
| 地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 分析 导体 瞬态 电磁 散射 特性 时域 nystrom 方法 | ||
1.一种分析导体瞬态电磁散射特性的时域高阶Nystrom方法,其特征在于步骤如下:
第一步,建立导体表面时域积分方程;
第二步,对导体表面时域积分方程采用三角基函数进行时间上的离散,并采用二阶曲面三角形单元进行空间上的离散;
第三步,在时间上采用加辽金测试,空间上点匹配,形成待求解的矩阵方程,未知电流为导体瞬态面电流;
第四步,求解矩阵方程,得到导体的瞬态面电流系数,再根据互易定理由电流系数计算瞬态电磁散射参量。
2.根据权利要求1所述的分析导体瞬态电磁散射特性的时域高阶Nystrom方法,其特征在于,所述步骤1中:
令电磁波照射到导体结构上,在导体表面上产生表面感应面电流J,根据理想导体的电场边界条件,即金属表面的总场切向分量为0,得到导体目标的时域积分方程TDIE,如下
其中,下标tan表示电场的切向分量,Einc和Hinc表示照射在目标上的电磁波的入射电场和磁场,Esca和Hsca表示目标在电磁波照射后产生的散射电场和磁场,散射场的表达形式为:
其中S表示金属表面单元,μ和ε分别表示自由空间的磁导率和介电参数,ro和rs分别为场和源的位置坐标,c表示真空中的光速,和分别表示对时间的积分和对时间的求导。
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