[发明专利]一种高效研磨组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨组合物。

背景技术

在半导体制造中，化学机械研磨 (CMP) 技术可以实现整个晶圆的平坦化，成为芯片制造工艺中重要的步骤之一。在化学机械研磨中，化学机械研磨剂 (Slurry) 是化学机械研磨技术的关键要素之一，其性能直接影响抛光后表面的质量。设计化学机械研磨剂时，希望能达到去除速率高、平面度好、膜厚均匀、无残留、缺陷少等效果。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种高效研磨组合物。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

一种高效研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：磷酸二氢钙1-7份，磷酸氢钙1-3份，过氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水杨酸钠2-9份，高岭土9-10份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，蒙脱土1-3份，氯化钙2-5份。

本发明的化学机械研磨剂中包括亲水基表面洁性剂材料，可以降低化学机械研磨剂和正在水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和琉水性薄膜更紧密贴合，从而减少琉水性薄膜表面上的残留物和颗粒等缺陷，改善化学机械研磨的效果。

具体实施方式

实施例1

一种高效研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：磷酸二氢钙1-7份，磷酸氢钙1-3份，过氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水杨酸钠2-9份，高岭土9-10份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，蒙脱土1-3份，氯化钙2-5份。