[发明专利]一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法在审
| 申请号: | 201410263895.8 | 申请日: | 2014-06-13 |
| 公开(公告)号: | CN104018137A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
| 发明(设计)人: | 张宁;张亚飞;余新平;曹惠 | 申请(专利权)人: | 北京四方继保自动化股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
| 代理公司: | 北京金阙华进专利事务所(普通合伙) 11224 | 代理人: | 吴鸿维 |
| 地址: | 100085 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 采用 化学 反应 制备 zns 薄膜 方法 | ||
技术领域
本发明属于薄膜太阳能电池制备技术领域,是一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法。
背景技术
CIGS薄膜太阳能电池作为最有发展潜力的薄膜太阳能电池,吸引各国学者进行了大量研究。CIGS薄膜太阳能电池构成一般为:钼层/CIGS吸收层/缓冲层/本征氧化锌层/导电窗口层。目前CIGS薄膜太阳能电池主要采用CdS作为缓冲层,但存在以下缺点:(1)CdS的禁带宽度为2.4eV,不利于电池对短波段光线的吸收;(2)Cd为重金属,在制备CdS缓冲层时产生的含Cd2+废液对环境有害。因此开发一种宽禁带无毒害缓冲层成为CIGS薄膜太阳能电池领域的一个研究热点。ZnS禁带宽度3.7eV,且对环境无害,被认为是CdS缓冲层最好的替代材料。目前制备ZnS薄膜方法主要有溅射法、化学气相沉积法、化学浴法等,在这些制备方法中化学浴制备的ZnS薄膜的性能好,且设备简单,操作方便,工艺重复性好,适合大规模工业化生产。但目前化学浴法制备ZnS薄膜所需要沉积时间较长,或需要多次重复沉积才能达到目标厚度。
发明内容
本发明目的是提供一种化学浴反应制备均匀致密ZnS薄膜的方法。此方法不仅设备简单,操作方便,工艺重复性好,且制得的ZnS薄膜均匀致密、透过率高、沉积速率较快、薄膜厚度可控,满足CIGS薄膜太阳能电池用缓冲层的性能要求。
为达到上述目的,本发明所采取的技术方案是:
一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法,其特征在于:所述方法采用硫酸锌和硫脲分别作为锌源和硫源,以氯化铵为缓冲剂,氨水和联氨为联合络合剂,制得ZnS薄膜。
采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法包括以下步骤:
(1)分别称取一定量的硫酸锌、硫脲和氯化铵,加入适量去离子水溶解得到三种溶液;
(2)首先将硫酸锌和氯化铵溶液倒入烧杯中并搅拌均匀,然后加入一定体积的浓氨水和联氨并搅拌均匀,最后加入硫脲溶液和去离子水定容后搅拌均匀;
(3)将已清洗干净的基片用夹具夹持,竖直放入反应容器内,将配制好的反应溶液加入反应容器内;
(4)将反应容器放入已达设定温度的水浴锅内,并立即开始搅拌,搅拌停止后可继续维持设定的水浴反应时间直至反应结束;
(5)将基片从反应容器中取出,用去离子水冲洗,然后吹干。
上述的一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法。其特征在于采用硫酸锌作为锌源,以硫脲作为硫源,以氯化铵为缓冲剂,氨水和联氨为联合络合剂,反应溶液浓度为:硫酸锌:0.005~0.3mol/L、氯化铵:0.005~0.1mol/L、硫脲:0.05~2mol/L、氨水:0.1~3mol/L、联氨:0.1~2mol/L。
上述的一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法。其特征在于配制反应溶液时,各组分的添加具有一定的顺序,即:首先将硫酸锌和氯化铵溶液倒入烧杯中并搅拌均匀,然后加入一定体积的浓氨水和联氨并搅拌均匀,最后加入硫脲溶液和去离子水定容后搅拌均匀。
上述的一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法。其特征在于整个反应过程中基片保持竖直放置。
上述的一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法。其特征在于水浴反应同时进行搅拌以促进溶液均匀反应。其中优选基片温度即水浴锅的设定温度为50℃~90℃,搅拌时间1min~30min,水浴反应时间为5min~30min。
本方法所包含以下有益效果:
整个水浴反应过程中基片保持竖直放置,避免反应过程中产生大块颗粒物沉积在基片表面,同时反应过程中的搅拌不仅促使反应溶液更均匀,而且可以避免气泡和颗粒物吸附在基片表面,从而提高ZnS薄膜的质量。
目前,人们通常采用氨水体系水浴制备ZnS缓冲层,但是其所需要的反应溶液浓度较高。本发明采用硫酸锌和硫脲分别作为锌源和硫源,以氯化铵为缓冲剂,氨水和联氨为联合络合剂,可使反应溶液浓度大为降低,仅为氨水体系1/3~1/5,因此本发明不仅节约生产原料,降低成本,而且较低的反应溶液浓度对后期反应废液的处理有利,易于满足工业生产节能减排的要求。此外,以氨水和联氨作为联合络合剂,薄膜生长速度快,在5~30min内即可完成ZnS薄膜的制备,显著提高生产效率。
本发明采用化学浴反应制备ZnS缓冲层,所需设备及化学试剂价格便宜,制备工艺简单且重复性非常好,所制备的ZnS薄膜均匀致密无针孔且透过率高。非常适合大规模工业化生产。
附图说明
图1为实施例1中在玻璃衬底上制备的ZnS薄膜表面SEM照片。
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