[发明专利]一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法有效
申请号: | 201410231799.5 | 申请日: | 2014-05-29 |
公开(公告)号: | CN104018128A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 王传军;唐志龙;张俊敏;闻明;毕珺;沈月;宋修庆;管伟明 | 申请(专利权)人: | 贵研铂业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/14;C22C19/03;C22F1/10 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650106 云南省昆明市高新*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
1.一种镍铂合金溅射靶,其特征在于:所述镍铂溅射靶中,铂的含量为0~5原子百分比,靶材的平均晶粒尺寸小于80微米,且单个晶粒尺寸不大于150微米。
2.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:所述镍铂溅射靶中平均晶粒尺寸小于50微米,且单个晶粒尺寸不大于100微米。
3.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:在X射线衍射分析中,用式(Ⅰ)表示的(111)晶面的X射线衍射峰强度比为小于50%,
..............................式(Ⅰ)。
4.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:在X射线衍射分析中,用式(Ⅱ)表示的(200)晶面的X射线衍射峰强度比大于20%,
..............................式(Ⅱ)。
5.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:所述靶材的透磁率(PTF)大于40%且在各个不同方向上测量的数值差别在5%以内。
6.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:所述靶材的透磁率(PTF)大于50%且在各个不同方向上测量的数值差别在5%以内。
7.根据权利要求1所述的镍铂合金溅射靶,其特征在于:所述靶材的透磁率(PTF)大于60%且在各个不同方向上测量的数值差别在5%以内。
8.一种如权利要求1所述的镍铂合金溅射靶的制备方法,包括以下步骤:
(a)熔炼:将镍或镍合金原料熔炼成铸锭;
(b)热轧:热轧镍或镍合金铸锭成料坯;
(c)冷轧和热处理:对热轧后的料坯进行冷轧和热处理交替加工;
其特征在于:其中热轧时需进行横纵向的交替轧制,热轧温度为 950℃~1250℃,热轧变形量在30%以上;所述的冷轧为横轧与纵轧按90度角顺时针交替轧制,冷轧次数为两次,冷轧之间进行一次热处理,冷轧的总的变形量在20%~30%以内;所述的热处理温度为600℃~800℃,时间为1~4个小时。
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