[发明专利]耐磨光学材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种耐磨光学材料，其特征在于，所述耐磨光学材料按质量百分比计包括：聚氨酯丙烯酸酯：30～60%；环氧型丙烯酸酯：≤20%；高折射率单体：10～30%；弹性单体：10～30%；稀释单体：≤15%；光引发剂：2～7%。

2.根据权利要求1所述的耐磨光学材料，其特征在于，所述高折射率单体包括：乙氧化双酚A（甲基）丙烯酸酯、邻苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、改性乙氧基双酚芴丙烯酸酯或它们的组合。

3.根据权利要求1所述的耐磨光学材料，其特征在于，所述弹性单体按摩尔百分比计包括：至少10%的环氧乙基的(甲基)丙烯酸酯。

4.根据权利要求1所述的耐磨光学材料，其特征在于，所述稀释单体包括：低粘单官能团丙烯酸酯、乙氧化双酚A（甲基）丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的耐磨光学材料，其特征在于，所述光引发剂包括：1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯甲酰甲酸甲酯或它们的组合。

6.一种制备权利要求1至5任一项所述的耐磨光学材料的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：按质量百分比计，称量光引发剂：2～7%，稀释单体：≤15%，弹性单体：10～30%，以及高折射率单体：10～30%，并置于容器中；再称量环氧型丙烯酸酯：≤20%，聚氨酯丙烯酸酯：30～60%，并再次置于容器中，封闭容器，搅拌后在400～700mj/m²的条件下固化成型。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述搅拌时，在45℃的条件下，搅拌30min。

8.根据权利要求1至5任一项所述的耐磨光学材料在光学膜生产加工中的应用。

9.根据权利要求8所述的耐磨光学材料在光学膜生产加工中的应用，其特征在于，所述光学膜为棱镜片或扩散片。