[发明专利]液晶显示面板的制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板的制造方法，包括：

提供一基底，其上方具有一绝缘层；

在该绝缘层上形成一第一金属复合层；

图案化该第一金属复合层，以形成穿过该第一金属复合层的至少一第一开口；

在该图案化第一金属复合层上形成一第一中间介电层，并填满该至少一第一开口；

进行一第一平坦化制作工艺，以移除该第一中间介电层，直到该图案化第一金属复合层暴露出来；

在该图案化第一金属复合层上形成一第二中间介电层；

图案化该第二中间介电层，以穿过该第二中间介电层形成第二开口；

在该图案化第二中间介电层上形成一第二金属复合层；

图案化该第二金属复合层以形成至少一第三开口；

在该图案化第二金属复合层上形成一第三中间介电层，并填满该至少一第三开口；以及

进行一第二平坦化制作工艺，以移除该第三中间介电层，直到该图案化第二金属复合层暴露出来。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第一金属复合层包含依序在该绝缘层上形成一第一层、一第二层与一第一金属层。

3.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第一层包含通过溅镀或物理气相沉积(PVD)形成一钛层，而形成该第二层包含通过PVD或化学气相沉积(CVD)形成一氮化钛(TiN)层。

4.如权利要求3所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第一金属层包含通过溅镀、PVD或电镀形成一层的铝、钛、钽、银、金、铜或铂。

5.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中该第一金属复合层的厚度范围为200nm至1000nm。

6.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中该第二中间介电层包含硅氧化物、硅氮氧化物与/或硅氮化物，通过CVD形成。

7.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中该第二中间介电层的厚度范围为300埃至1800埃。

8.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第二金属复合层包含依序形成一第三层、一第四层与一第二金属层。

9.如权利要求8所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第三层包含通过溅镀或物理气相沉积(PVD)形成一钛层，而形成该第四层包含通过PVD或化学气相沉积(CVD)形成一氮化钛(TiN)层。

10.如权利要求9所述的液晶显示面板的制造方法，其中该第三层与该第四层共形形成覆盖该些第二开口的表面，而不填满该些第二开口。

11.如权利要求9所述的液晶显示面板的制造方法，其中形成该第二金属层包含通过溅镀、PVD或电镀形成一层的铝、钛、钽、银、金、铜或铂。

12.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其中该第二金属复合层的厚度范围为300埃至1800埃。

13.如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，还包括在该图案化第二金属复合层上形成另一绝缘层，并在该图案化第二金属复合层上方形成多个像素电极与一彩色滤片矩阵。

14.如权利要求13所述的液晶显示面板的制造方法，还包括在该彩色滤片矩阵上方形成一液晶层与一上基底。