[发明专利]X射线分析装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于通过对试样照射X射线来进行分析的X射线分析装置。

背景技术

在X射线分析装置中设置有例如用于对试样照射X射线的X射线源、和对在试样上衍射后的X射线进行检测的检测器。在这种X射线分析装置中，具有使X射线源以及检测器在以试样为中心的基准圆（所谓的衍射圆）上相对移动来进行分析的装置（例如，参照以下的专利文献1）。

图5A是示出现有的X射线分析装置的结构例的概略图。在该例子中，检测器102设有具有规定宽度的狭缝的狭缝板121。由此，在试样S衍射后的X射线中只有通过了狭缝板121的狭缝的X射线被检测器102检测到。X射线源101以及检测器102的狭缝板121（狭缝）位于以试样S为中心的衍射圆C上。

在分析时，以衍射圆C的中心A为旋转轴线，例如试样S以规定的角速度旋转（所谓的θ旋转），由此相对于试样S的表面的X射线的入射角发生变化。此时，检测器102以旋转轴线为中心以θ旋转的2倍角速度旋转（所谓的2θ旋转）。由此，在相对于试样S的X射线的入射角与在试样S衍射后的X射线的向狭缝的入射角维持一定关系的状态下，能够得到衍射信息。

在采用这样的X射线分析装置进行分析的情况下，通过使狭缝板121间歇地移动，使得狭缝在衍射圆C上移动。然而，在像这样使狭缝板121断续地移动，采用检测器102对通过了各狭缝位置的X射线进行检测的情况下，存在分析耗费时间的问题。因此，近年来，已知有一种X射线分析装置，其采用具有多个检测元件的检测器在衍射圆C上移动那样的结构。

图5B是示出现有的X射线分析装置的其他结构例的概略图。在该例子中，采用的是将多个检测元件221在基板222上配置成1列的检测器202。X射线源201以及检测器202位于以试样S为中心的衍射圆C上。在分析时，以衍射圆C的中心A为旋转轴线，试样S以及检测器202以上述那样的形态进行旋转。

检测器202被设置为各检测元件221并列在衍射圆C的切线Cl上。采用这样的X射线分析装置，可以通过多个检测元件221对在试样S衍射后的X射线同时进行检测，因此可以缩短分析时间。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000－35409号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，采用如上述那样将多个检测元件221设置在衍射圆C的切线C1上的结构的话，恐怕不能高精度地进行分析。具体来说，在各检测元件221中，除了位于衍射圆C与检测器202的切点C2上的检测元件221以外的检测元件221都不在衍射圆C上，因此是在与焦点不同的位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。因此，由各检测元件221检测的X射线强度产生误差，恐怕不能得到正确的衍射信息。

离上述切点C2越远的检测元件221越容易产生这样的问题，因此设置在切线Cl上的检测元件221的数量越多，则分析的精度就越低。因此，不能将检测器202中的检测元件221的数量设置得过多，分析时间的缩短也是有限度的。即，采用现有的X射线分析装置的话，缩短分析时间且高精度地进行分析是比较困难的。

又，在基于由各检测元件221检测到的X射线强度得到衍射信息之时，各检测元件221的位置信息被转换为以旋转轴线为中心的衍射圆C上的角度信息。此时，检测元件221离上述切点C2越远就越远离衍射圆C，因此转换后的角度信息就容易产生偏差。因此，为了高精度地进行分析，需要进行正确的角度校正。

本发明正是鉴于上述实际情况而做出的，其目的在于提供一种能够缩短分析时间且能高精度地进行分析的X射线分析装置。又，本发明的目的在于提供一种不进行角度校正就能高精度地进行分析的X射线分析装置。

用于解决问题的手段

本发明所涉及的X射线分析装置，其特征在于，具有：用于对试样照射X射线的X射线源；检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准圆上相对移动并进行分析，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上。

根据这样的结构，由于多个检测元件的各检测面沿着基准圆（衍射圆）位于圆弧上，因此可以利用各检测元件在焦点位置对在试样衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件检测的X射线强度产生误差，因此可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测，可以缩短分析时间且能高精度地进行分析。