[发明专利]X射线分析装置

权利要求书

1.一种X射线分析装置，具有：

用于对试样照射X射线的X射线源；

检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及

移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准圆上相对移动并进行分析，

所述X射线分析装置的特征在于，

所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上，

所述X射线分析装置还具有圆弧曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

2.如权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述多个检测元件的各检测面朝向所述基准圆的中心。

3.如权利要求2所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述检测器是通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为一列而构成的，

通过使所述挠性基板弯曲，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上。

4.如权利要求1～3中任一项所述的X射线分析装置，其特征在于，

还具有基准圆变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准圆的直径进行变更，

为了与由所述基准圆变更机构变更了的所述基准圆的曲率相对应，所述圆弧曲率变更机构对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

5.一种X射线分析装置，具有：

用于对试样照射X射线的X射线源；

检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及

移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准球面上相对移动并进行分析，

所述X射线分析装置的特征在于，

所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上，

所述的X射线分析装置还具有球面曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。

6.如权利要求5所述的X射线分析装置，其特征在于，所述多个检测元件的各检测面朝向所述基准球面的中心。

7.如权利要求6所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述检测器是通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为格子状而构成的，

通过使所述挠性基板弯曲，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上。

8.如权利要求5～7中任一项所述的X射线分析装置，其特征在于，

还具有基准球面变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准球面的直径进行变更，

为了与由所述基准球面变更机构变更了的所述基准球面的曲率相对应，所述球面曲率变更机构对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。