[发明专利]抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线

说明书

技术领域

本发明涉及一种抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，尤其是用于光学介质膜和透明导电膜组成的抗反射导电膜，且能够实现基片装载连续循环和不间断生产抗反射导电膜产品的连续式磁控溅射镀膜生产线。

背景技术

目前工业上制造抗射导电膜的方法有两种:其一直接购置使用溶胶制备的抗反射膜，再进行透明导电膜镀膜，形成抗反射膜;其二，采用现有的导电膜溅射镀膜生产线，先通常反复多次溅射镀膜，形成抗反射膜和导电膜。但是这两种方法都存在部分问题:(1)溶胶法制备的抗反射膜工艺复杂，生产成本高；(2)溶胶法制备技术不够成熟，不能一次完成抗反射膜与导电膜的一次产出；(3)溅射抗反射导电膜沉积速率低，需要反复镀膜；(4)现有产品有对膜层结构要求繁多，不适合大批量一次连续生产。

发明内容

目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，适合大批量生产，成本较低，溅射沉积速率较高，制程工艺通用性好；可以广泛用于显示面板玻璃的抗反射导电膜连续磁控溅射生产。 

技术方案：为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：包括真空腔室区，所述真空腔室区包括依次排列相连通的第一预初轴腔室、第一过渡腔室、第一介质膜镀膜腔室、第二介质膜镀膜腔室、第一隔离腔室、第二隔离腔室、第一导电膜镀膜腔室、第二导电膜镀膜腔室、第二过渡腔室、第二预初轴腔室；所述第一预初轴腔室、第一过渡腔室、第一介质膜镀膜腔室、第二介质膜镀膜腔室、第一隔离腔室、第二隔离腔室、第一导电膜镀膜腔室、第二导电膜镀膜腔室、第二过渡腔室、第二预初轴腔室相邻腔室之间均设置有可开启或关闭的隔离门，所述第一预初轴腔室入片口处设置上片升降区，所述第二预初轴腔室出片口处设置下片升降区；真空腔室区内部设置贯穿连续的多个基片载具传送轴，所述基片载具传送轴一端穿过真空腔室壁与伺服传动马达相接驱动。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述基片载具传送轴上对称设置有两个基片载具传动轮, 靠近真空腔室区内壁两侧对称设置有基片载具导向轮。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：还包括多个机架；所述第一预初轴腔室、第一过渡腔室、第一介质膜镀膜腔室、第二介质膜镀膜腔室、第一隔离腔室、第二隔离腔室、第一导电膜镀膜腔室、第二导电膜镀膜腔室、第二过渡腔室、第二预初轴腔室底部均设置有机架来支撑固定；所述机架上设置有回转传动组。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述机架底部设置有地脚脖用以调整机架高度。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述机架底侧横向设置有一底杆，底杆底侧设置有便于移动的滑轮。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述真空腔室区与真空泵组通过抽真空阀组相连通。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述第一介质膜镀膜腔室、第二介质膜镀膜腔室设置有氩气充气口。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：所述第一介质膜镀膜腔室、第二介质膜镀膜腔室内设置有孪生磁控溅射靶；每对孪生靶配置四支制程进气管路。

所述的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，其特征在于：第一预初轴腔室和第二预初轴腔室分别连接抽气系统。

有益效果：本发明提供的抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线，能够实现基片装载连续循环和不间断生产抗反射导电膜产品；适合大批量生产，成本较低，溅射沉积速率较高，制程工艺通用性好；可以广泛用于显示面板玻璃的抗反射导电膜连续磁控溅射生产；1、具有独立的介质膜镀膜腔室:第一介质膜镀膜腔室，第二介质膜镀膜腔室，且可以布置4对孪生磁控溅射靶，每对孪生靶配置四支制程进气管路，可以实现优质介质膜的镀膜，如:氧化钛(TIO2)，氧化硅(SIO2)混合镀膜；2、各制程腔室均有效地进行了真空气体隔离，可以不同速度，不同真空环境，不同的溅射工艺实现镀膜生产工艺。适合大批量生产，与工艺调整。可以实现快节奏批量，生产效率高；3、有独立的导电膜镀膜腔室，可以生产大部分导电膜。如氧化铟锡(ITO)，氧化锌(ZnO)，氧化铟(IN2O3)，氧化锡(SNO2)等。适合用于显示面板，太阳能面板的透明导电膜，抗反射膜，高反射膜的镀膜生产。

附图说明

图1为本发明抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线的布局图；

图2为本发明抗反射导电ITO膜连续镀膜生产线的正面图；