[发明专利]包含有机镍化合物的化学沉积用原料及使用该化学沉积用原料的化学沉积法在审
| 申请号: | 201380076725.2 | 申请日: | 2013-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN105247098A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
| 发明(设计)人: | 铃木和治;斋藤昌幸;原田了辅;锅谷俊一;宫崎智史 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C07F15/04 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张苏娜;常海涛 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包含 有机 化合物 化学 沉积 料及 使用 原料 | ||
1.一种化学沉积用原料,其用于通过化学沉积法来制造镍薄膜或镍化合物薄膜,其中,
所述化学沉积用原料包含由下式表示的有机镍化合物,其中,该有机镍化合物中环戊二烯基(Cp)或其衍生物、以及在环烷基的碳骨架中具有一个烯丙基的环烯基或其衍生物(X)与镍配位:
式中,X为在环烷基的碳骨架中具有一个烯丙基的环烯基,R1至R5为CnH2n+1,n=0至6,且n为整数。
2.根据权利要求1所述的化学沉积用原料,其中,所述环烯基或其衍生物(X)是由下式表示的环丁烯基、环戊烯基、环己烯基、环庚烯基、环辛烯基、环壬烯基或它们的衍生物中的任一种:
其中R6至R65为CnH2n+1,n=0至6,且n为整数。
3.根据权利要求1或2所述的化学沉积用原料,其中,对于环戊二烯基(Cp)衍生物,在环戊二烯基(Cp)的取代基(R1至R5)之中,一个为烷基,其余4个取代基为氢原子。
4.一种化学沉积法,其为将包含有机镍化合物的原料气化以作为原料气体,并且一边将所述原料气体导入基板表面一边加热的镍薄膜或镍化合物薄膜的化学沉积法,其中
作为所述原料,使用根据权利要求1至3中任一项所述的化学沉积用原料。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





