[发明专利]碳化硅粉末和碳化硅单晶的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380076003.7 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN105246826A 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 增田贤太;一坪幸辉;铃木将和;野中洁;加藤智久;田中秀秋 申请(专利权)人: 太平洋水泥株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;C30B29/36
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;褚瑶杨
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 碳化硅 粉末 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种碳化硅粉末,其为勃氏比表面积为250cm2/g~1,000cm2/g的碳化硅粉末,其中,粒度超过0.70mm且为3.00mm以下的碳化硅粉末在该碳化硅粉末的总量中所占的比例为50体积%以上。

2.如权利要求1所述的碳化硅粉末,其中,上述碳化硅粉末含有一次粒子凝集而成的粒子,所述一次粒子中,粒度为1μm以上、1mm以下的粒子的比例为90体积%以上。

3.如权利要求1或2所述的碳化硅粉末,其中,上述碳化硅粉末为含有α型碳化硅的粉末、含有β型碳化硅的粉末或含有α型碳化硅和β型碳化硅的混合物的粉末。

4.一种碳化硅单晶的制造方法,其中,使用权利要求1~3任一项所述的碳化硅粉末作为原料,利用升华再结晶法,使碳化硅单晶在碳化硅籽晶上生长。

5.如权利要求4所述的碳化硅单晶的制造方法,其中,通过以堆密度为0.7g/cm3~1.4g/cm3的方式将上述碳化硅粉末收容于坩埚内并对其加热,使碳化硅单晶在设置于坩埚上盖的底面部分的碳化硅籽晶上生长。

6.如权利要求4或5所述的碳化硅单晶的制造方法,其中,通过以热传导率为0.05W/m·K~0.15W/m·K的方式将上述碳化硅粉末收容于坩埚内并对其加热,使碳化硅单晶在设置于坩埚上盖的底面部分的碳化硅籽晶上生长。

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