[发明专利]透明聚酰亚胺基板及其制备方法

权利要求书

1.一种透明聚酰亚胺基板，包括透明聚酰亚胺膜和在该透明聚酰亚胺膜的至少一个表面上形成的聚异氰酸酯固化层，该聚异氰酸酯含有丙烯酸酯基并且每分子含有2至5个异氰酸酯基。

2.如权利要求1所述的透明聚酰亚胺基板，其中，所述聚异氰酸酯由下面化学式1表示：

化学式1

其中，R为

其中，n为0至5的整数，m为1至5的整数，R₁为氢原子或具有1至3个碳原子的烷基，R₂为具有1至5个碳原子的烷基。

3.如权利要求1所述的透明聚酰亚胺基板，其中，所述固化层的厚度为1.0至20.0μm。

4.如权利要求1所述的透明聚酰亚胺基板，该透明聚酰亚胺基板还包括在所述透明聚酰亚胺膜和所述固化层之间形成的硅氧化物层，该硅氧化物层包含由下面化学式2表示的单元结构：

化学式2

其中，m和n各自为0至10的整数。

5.如权利要求4所述的透明聚酰亚胺基板，其中，所述硅氧化物层的厚度为0.3至2.0μm。

6.一种透明聚酰亚胺基板的制备方法，包括如下步骤：

将包含聚异氰酸酯的溶液涂布在透明聚酰亚胺膜的至少一个表面上，所述聚异氰酸酯含有丙烯酸酯基并且每分子含有2至5个异氰酸酯基；干燥该涂布的溶液，从而形成涂层；以及

固化该涂层，形成固化层。

7.如权利要求6所述的制备方法，其中，所述聚异氰酸酯由下面化学式1表示：

化学式1

其中，R为

其中，n为0至5的整数，m为1至5的整数，R₁为氢原子或具有1至3个碳原子的烷基，R₂为具有1至5个碳原子的烷基。

8.如权利要求6所述的制备方法，其中，所述包含聚异氰酸酯的溶液还包含选自安息香醚光引发剂、二苯甲酮光引发剂以及其组合中的光引发剂。

9.如权利要求6所述的制备方法，其中，固化涂层以形成固化层的步骤是通过用具有312nm或365nm短波长的紫外线以1500至10000J/m²的剂量照射该涂层来进行的。

10.如权利要求6所述的制备方法，其中，在将所述溶液涂布在透明聚酰亚胺膜的至少一个表面上的步骤之前，该方法还包括将包含聚硅氮烷的溶液涂布在透明聚酰亚胺膜上、干燥该涂布的聚硅氮烷溶液以及固化该聚硅氮烷以形成硅氧化物层的步骤。

11.如权利要求10所述的制备方法，其中，所述聚硅氮烷包含由下面化学式3表示的单元结构，所述硅氧化物层包含由下面化学式2表示的单元结构：

化学式2

其中，m和n各自为0至10的整数；

化学式3

其中，m和n各自为0至10的整数。

12.如权利要求10所述的制备方法，其中，固化所述聚硅氮烷以形成硅氧化物层的步骤通过在200至300℃的温度下热处理该聚硅氮烷来进行。