[发明专利]可视性改善的透明导电性膜及其制备方法在审
| 申请号: | 201380053707.2 | 申请日: | 2013-10-15 |
| 公开(公告)号: | CN104737108A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
| 发明(设计)人: | 郑根;金仁淑;李敏熙;赵靖;金庚泽 | 申请(专利权)人: | 乐金华奥斯有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;杨生平 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 可视性 改善 透明 导电性 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及可视性(visibility)改善的透明导电性膜,详细地涉及,底涂层包含无机粒子而底涂层的折射率变高,从而能够改善图案可视性的透明导电性膜及其制备方法。
背景技术
透明电极膜是制备触控面板时最重要的部件之一。至今为止,作为这种透明电极膜的广泛使用是全光线透过率为85%以上且表面电阻为400Ω/square以下的氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)。
一般的透明电极膜,为了使透明高分子膜具备表面平坦性和耐热性,在进行涂底(primer coating)处理后再进行硬涂处理后用作基材膜(base film)。
在这基材膜上,利用湿涂(wetcoating)法或真空溅射法来形成透明底涂(under coating)层后,利用溅射方式形成如氧化铟锡的透明导电层。
另一方面,最近随着恒电流容量方式的触控面板的使用增加,需要实现用于微细恒电流的表面电阻小于200Ω/square的低电阻和改善透明导电膜图案的可视性。
发明内容
本发明要解决的技术问题
本发明一实例的透明导电性膜在底涂层包含无机粒子,并使其通过湿涂形成时,能够获得基材和导电层之间的恰当折射率,从而能够使导电层的图案被遮挡,因而可确保图案的可视性。
本发明的另一实例提供一种形成包含无机粒子的底涂层来改善了可视性的透明导电性膜及其制备方法。
技术方案
为了达到上述目的的本发明的透明导电性膜,其特征在于,包括:透明膜,底涂层,形成在上述透明膜上,以及导电层,形成在上述底涂层上;上述底涂层包含无机粒子,上述底涂层与透明膜的折射率之差为0.15至0.30。
并且为了达到上述目的的本发明的透明导电性膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:用湿涂法在透明膜上涂敷涂敷用组合物来形成底涂层的步骤,以及在上述底涂层上形成导电层的步骤;上述涂敷用组合物包含无机粒子。
有益效果
本发明的透明导电性膜,底涂层的折射率比由溅射技术形成的硅氧化物层的折射率高且比透明导电层的折射率低,能够确保优秀的图案可视性,并能够由稳定的高速生产方法形成底涂层,还能容易确保宽度方向的厚度均匀度。
并且,仅溅射导电层,因此相对于溅射底涂层的一部分的以往方法,能够将生产速度提高两倍以上,从而容易大量生产透明导电性膜。
附图说明
图1表示本发明一实施例的透明导电性膜的剖面。
具体实施方式
以下参照详细说明的实施例会让本发明的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法更加明确。但是,本发明不局限于以下所公开的实施例,能够以互不相同的各种方式实施,本实施例只用于使本发明的公开内容更加完整,有助于本发明所属技术领域的普通技术人员完整地理解本发明的范畴,本发明根据本发明保护的范围而定义。
另一方面,附图中,为了明确表现各种层及区域,放大厚度来表现。而且为了方便说明,附图中一部分层及区域的厚度有所夸张。层、膜、区域、板等部分在另一部分“上”或“上部”时,不仅包括紧贴于另一部分的“正上方”的情况,还包括其中间有别的部分的情况。
以下,对本发明实施例的透明导电性膜及其制备方法,进行详细说明。
透明导电性膜
图1简要表示本发明一实施例的透明导电性膜的剖面,上述透明导电性膜包括透明膜110、底涂层120及导电层130。
上述导电层130由图案形成,只有在这类图案被遮挡时,才能确保优秀的图案可视性。上述底涂层120的高折射特性将上述导电层130的图案遮挡,而能够确保优秀的图案可视性。可使用透明性和强度优秀的膜作为透明膜110。作为透明膜110的材质,可以提出聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate,PEN)、聚醚砜(polyethersulfone,PES)、聚碳酸酯(Poly carbonate,PC)、聚丙烯(poly propylene,PP)及降冰片烯类树脂等,这些可以单独使用或混合两种以上使用。并且,透明膜110可以是单一膜形态或层压膜形态。
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