[发明专利]可视性改善的透明导电性膜及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电性膜，其特征在于，包括：

透明膜，

底涂层，形成在所述透明膜上，

导电层，形成在所述底涂层上；

所述底涂层包含无机粒子；

所述底涂层与透明膜的折射率之差为0.15至0.30。

2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述无机粒子使用选自ZnO、TiO₂、CeO₂、SnO₂、ZrO₂、MgO以及Ta₂O₅中的一种或两种以上。

3.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述底涂层的折射率在1.45～1.80范围内。

4.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述底涂层的厚度为40～500nm。

5.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述底涂层是单一层。

6.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述底涂层包含0.1至10重量％的无机粒子。

7.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述透明膜为由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚丙烯及降冰片烯类树脂中的一种以上形成的单一膜或层压膜。

8.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，还包括硬涂层，所述硬涂层形成在所述透明膜的单面或双面。

9.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，所述导电层包含选自氧化铟锡和氟掺杂氧化锡中的一种以上氧化物。

10.一种透明导电性膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

用湿涂法在透明膜上涂敷涂敷用组合物来形成底涂层的步骤，以及

在所述底涂层上形成导电层的步骤；

所述涂敷用组合物包含无机粒子。

11.根据权利要求10所述的透明导电性膜的制备方法，其特征在于，所述湿涂法由选自凹版涂敷法、狭缝涂敷法、旋涂法、喷涂法、棒涂法以及沉积涂敷法中的一种方法构成。

12.根据权利要求10所述的透明导电性膜的制备方法，其特征在于，所述涂敷用组合物包含光固化性化合物及光聚合引发剂。

13.根据权利要求10所述的透明导电性膜的制备方法，其特征在于，在所述透明膜的单面或双面还形成硬涂层。