[发明专利]用于对衬底进行表面处理的装置和方法和用于制造光电子构件的方法

权利要求书

1.一种用于对衬底(30)进行表面处理的装置，所述装置具有能围绕旋转轴线(58)转动安装的工艺头部(22)，所述工艺头部具有多个排气口(50)，所述排气口至少部分地构造在所述工艺头部(22)的径向的外边缘上。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述排气口(50)构造且布置成，使得在运行时，过程气体如下地离开所述排气口(50)中的至少一个，以至于所述过程气体至少部分地在具有径向定向的方向分量的方向上流动远离所述工艺头部。说明：直接或间接地经由在工艺头部处的偏转。

3.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述工艺头部(22)构造成柱形的并且具有轴线和外周面，其中所述轴线位于所述旋转轴线(58)上，并且其中，布置在所述外边缘处的所述排气口(50)构造在所述外周面上。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，在所述工艺头部(22)的径向的所述外边缘处构造至少一个进气口(51)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，至少一个所述排气口(50)和/或至少一个布置在径向的所述外边缘处的所述进气口(51)构造成狭槽形和/或圆形。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述工艺头部(22)具有

用于向第一工艺室(100)输送第一反应气体的第一排气口(50a)，

用于向第二工艺室(110)输送第二反应气体的第二排气口(50b)，

用于向另一个工艺室(134)输送吹洗气体的另一个的排气口(50e)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置具有壳体(24)，在所述壳体中能转动地安装有所述工艺头部(22)，并且所述壳体具有用于输送所述衬底(30)的输送开口(78)和用于导出所述衬底(30)的导出开口(76)。

8.根据权利要求7所述的装置，所述装置具有加热设备(74)，所述加热设备加热所述壳体(24)的内部空间。

9.根据权利要求7或8中任一项所述的装置，所述装置具有用于从所述壳体(24)中抽吸出气体的壳体抽吸系统(72)。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的装置，其中，所述壳体(24)具有用于将吹洗气体输送到所述壳体(24)中的壳体吹洗气体输送系统(70)。

11.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置具有进给设备，所述进给设备用于朝向所述工艺头部(22)进给所述衬底(30)和用于继续引导所述衬底(30)远离所述工艺头部(22)。

12.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置为了预设所述衬底(30)和所述工艺头部(22)之间的间距而具有两个或多个间隔件(140)。

13.根据权利要求12所述的装置，其中，所述间隔件(140)具有至少两个接片(102，104)，所述接片布置在所述工艺头部(22)的轴向外边缘中。

14.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置在所述装置的径向的所述外边缘处具有多个横壁(131)，所述横壁在径向方向上从径向的所述外边缘中突起，并且所述横壁在具有沿轴向方向的方向分量的方向上延伸。

15.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，在所述工艺头部(22)中构造与径向的所述外边缘间隔开的通道(52，53，54，55，56，57)，所述通道用于：将所述排气口(50)和所述进气口(51)与相应的气体穿引部连接。

16.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置具有用于旋转所述工艺头部(22)的驱动单元(90)。

17.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置具有多个串联布置的工艺头部(22)。