[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体

说明书

技术领域

本发明涉及气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体。

背景技术

将塑料膜作为基材并在其表面形成氧化硅等无机薄膜的气体阻隔性塑料膜被广泛利用于需要隔绝水蒸气、氧等各种气体的物品的包装，例如用于防止食品、工业用品和医药品等的变质的包装。

对于用于该目的的膜包装材料，为了长期保存食品、药品，期望对水蒸气、氧的高气体阻隔性，进行了大量的开发。

近年来，伴随电子技术的迅速进步，液晶面板、有机EL面板、触摸面板、电子纸张、太阳能电池等电子设备的需求不断扩大。一般而言，这些电子设备是在玻璃基板上层叠有各种功能膜而成的，用于各种用途。

但是，由于玻璃的大比重和低韧性，存在设备重量大且易破裂的问题。因此，迫切期望基板的轻型化和强韧化，作为代替玻璃基板的材料，正在采用塑料片和膜。

对用于这些用途的塑料膜，除了要求非常严格的氧阻隔性和水蒸气阻隔性之外，还要求特别严格的透明性(色调、光线透射、雾度等)和耐久性(不因热处理、高温高湿处理等而损害阻隔性和透明性)。特别是对于显示器相关用途，作为显示设备元件、发光设备元件等的保护受到关注，迫切期望满足要求性能的气体阻隔膜的开发。

如上所述，为了发挥面向包装用途的高气体阻隔性，对气体阻隔膜进行了各种研究，例如作为提高气体阻隔性的手段，提出了在无机薄膜面上涂布有水溶性高分子与无机粒子的混合物的气体阻隔性膜(例如参照专利文献1)等，但该提案是以阻隔性的提高或稳定性为目标，并没有把重点置于提高透明性、抑制外观不良、抑制背景反射、眩光等方面。

像这样意图提高阻隔性能且意图提高以将显示器等作为代表的光学用途为目标的透明性的方案很少。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-36863号公报

发明内容

在专利文献1中公开的技术中，举出了利用使用了水性分散液的外涂层(树脂层)来提高气体阻隔性，但在采用工业的凹版涂布的实施中，会产生微小的缩孔(外观不良)。

此外，专利文献1在包装用途中为没有问题的水平，但根据用途(例如显示器等)有时会产生外观不良。另外，由于无法充分填补外涂层与蒸镀膜之间的微小的凹凸、缺陷部，所以由外光的映入引起的眩光(背景反射)显著。

本发明是在这样的情况下进行的，目的在于提供雾度值低且透明性优异、不产生外观不良、可抑制背景反射、并且水蒸气阻隔性优异的气体阻隔性膜及其制造方法，以及使用该气体阻隔性膜制成的气体阻隔性层叠体。

本发明人等为了实现上述目的经过反复深入的研究，结果发现通过下述本发明能够实现该目的。即，本发明如下所述。

(1)一种气体阻隔性膜，是在形成于基材膜的至少一面的无机层上设置含有聚乙烯醇和硅化合物的树脂层而成的气体阻隔性膜，基于JIS Z8722进行测定而得的b^*值为-1.0～1.0，a^*值为-1.0～1.0，

(2)如上述(1)所述的气体阻隔性膜，其中，60℃、90％RH的水蒸气透过率小于0.5g/m²/24h/atm，

(3)如上述(1)或(2)所述的气体阻隔性膜，其中，上述无机层具有至少1层利用导入了氧的物理气相蒸镀法形成的无机层(PVD无机层)，在形成上述树脂层后实施退火处理而成，

(4)如上述(1)～(3)中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，上述无机层由选自氧化硅、氮化硅、氧化氮化硅、氧化碳化硅、氧化碳化氮化硅、氧化铝、氮化铝、氧化氮化铝、和氧化碳化铝中的至少1种无机化合物构成，

(5)如上述(3)或(4)所述的气体阻隔性膜，其中，上述无机层含有2层以上的上述PVD无机层，

(6)如上述(3)～(5)中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，上述无机层依次形成有PVD无机层、利用化学气相蒸镀法形成的无机层(CVD无机层)和PVD无机层，

(7)如上述(6)所述的气体阻隔性膜，其中，上述CVD无机层中的碳含量低于20at.％且膜厚小于20nm，

(8)如上述(1)～(7)中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，在上述基材膜的至少一面设置有锚固涂层，

(9)如(1)～(8)中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，60℃、90％RH的水蒸气透过率小于0.3g/m²/24h/atm，