[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体

权利要求书

1.一种光学用气体阻隔性膜，是在形成于基材膜的至少一面的无机层上设置含有聚乙烯醇和硅化合物的树脂层而成的光学用气体阻隔性膜，

所述无机层具有至少1层利用导入了氧的物理气相蒸镀法形成的无机层即PVD无机层，

基于JIS Z8722进行测定而得的b^*值为-0.5～0.5、a^*值为-0.5～0.5，

基于JIS K7136:2000进行测定而得的雾度值为0.1～4.0％，

60℃、90％RH的水蒸气透过率小于0.5g/m²/24h/atm。

2.根据权利要求1所述的光学用气体阻隔性膜，其中，在形成所述树脂层后实施退火处理而成。

3.根据权利要求1或2所述的光学用气体阻隔性膜，其中，所述无机层由选自氧化硅、氮化硅、氧化氮化硅、氧化碳化硅、氧化碳化氮化硅、氧化铝、氮化铝、氧化氮化铝、和氧化碳化铝中的至少1种无机化合物构成。

4.根据权利要求1或2所述的光学用气体阻隔性膜，其中，所述无机层含有2层以上的所述PVD无机层。

5.根据权利要求1或2所述的光学用气体阻隔性膜，其中，所述无机层依次形成有PVD无机层、利用化学气相蒸镀法形成的无机层即CVD无机层、和PVD无机层。

6.根据权利要求5所述的光学用气体阻隔性膜，其中，所述CVD无机层中的碳含量低于20at.％且膜厚小于20nm。

7.根据权利要求1或2所述的光学用气体阻隔性膜，其中，在所述基材膜的至少一面设置有锚固涂层。

8.根据权利要求1或2所述的光学用气体阻隔性膜，其中，60℃、90％RH的水蒸气透过率小于0.3g/m²/24h/atm。

9.一种气体阻隔性层叠体，是将权利要求1～8中任一项所述的光学用气体阻隔性膜与透明膜和/或低收缩膜介由粘接层或粘合层层叠而成的。

10.一种气体阻隔性层叠体，是在权利要求9所述的气体阻隔性层叠体的至少一面侧层叠选自防眩层、低反射层和防眩低反射层中的至少1层而成的。

11.一种显示器用保护片，具有权利要求10的气体阻隔性层叠体。

12.一种光学用气体阻隔性膜的制造方法，是在基材膜的至少一面形成无机层，接着在该无机层上形成含有聚乙烯醇和硅化合物的树脂层的光学用气体阻隔性膜的制造方法，

利用导入了氧的物理气相蒸镀法形成所述无机层的至少1层，在形成所述树脂层后实施退火处理，使基于JIS Z8722进行测定而得的b^*值为-0.5～0.5、a^*值为-0.5～0.5，基于JIS K7136:2000进行测定而得的雾度值为0.1～4.0％，60℃、90％RH的水蒸气透过率小于0.5g/m²/24h/atm。