[发明专利]黑矩阵用感光性树脂组合物及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380011626.6 申请日: 2013-02-26
公开(公告)号: CN104145196B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 井户川浩幸;东学;中岛祥人 申请(专利权)人: 新日铁住金化学株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;C08F290/06;C08F290/14;G02F1/1335;G03F7/004;G03F7/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 柳冀
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 矩阵 感光性 树脂 组合 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种适于形成高遮光且高电阻的细线图案的黑矩阵,并且保存稳定性也优异的滤色器的黑矩阵用感光性树脂组合物及其制造方法。

背景技术

近年来,在液晶电视机、液晶监视器、彩色液晶手机等所有领域中开始使用彩色液晶显示装置。滤色器为控制彩色液晶显示装置的辨识性的重要的部件之一,为了得到辨识性的提高、即更鲜明的图像,滤色器的黑矩阵必须实现进一步的高遮光化,必须在感光性树脂组合物中与以往相比大量地添加颜料等遮光材料。

然而,产生如下问题:如果增加颜料等遮光材料的含量,则在滤色器形成时,在黑色光阻膜中,紫外线区域的光变得难以到达涂膜深部,因光固化性组合物中的固化不良而产生图案的密合不良或显影时的图案剥落、边缘形状的锐利性降低。

因此,为了即使在含有高浓度的颜料等遮光材料的情况下也不产生固化不良,使用高灵敏度的光聚合引发剂或聚合度高的丙烯酸单体,但在目前的技术中,关于光聚合引发剂或丙烯酸单体,现状为高灵敏度化达到极限,在颜料等遮光材料的高浓度领域中,存在不能得到用于进行良好的图案形成的充分的灵敏度或与玻璃基板的密合性及感光性树脂组合物的保存稳定性的问题。

因此,本发明人等以前提出了作为在颜料分散时使用的碱可溶性树脂,利用特定的环氧(甲基)丙烯酸酯的酸加合物,使用有将它们与分散剂一起共分散的颜料分散体的滤色器用感光性树脂组合物(参照专利文献1)。根据所述的感光性树脂组合物,在含有以黑矩阵实现高 遮光的高浓度的颜料等遮光材料的领域中,具有高灵敏度、对玻璃基板的高密合性能,并且可以实现感光性树脂组合物优异的保存稳定性。

但是,为了成为更明亮、更鲜明的滤色器,以将黑矩阵进一步细线化、遮光度也提高的方式要求特性越来越高度化,而且,由于液晶的显示方式,必须使黑矩阵比以往更高的电阻。要成为用于实现这样高水平的高遮光、高电阻的颜料等遮光材料的添加量时,无法充分地确保10μm以下的细线图案的显影密合性,在液晶面板上组装滤色器时,也发生难以由密封剂来较高地维持与玻璃基板的密合性的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-9401号公报

发明内容

发明所要解决的课题

如上所述,难以得到用于形成高遮光且高电阻的细线图案的黑矩阵用感光性树脂组合物,例如为了遮光而大量地添加炭黑时,不能充分地得到10μm以下的细线图案的密合性或与玻璃基板的密合性,也难以成为高电阻,相反,使细线图案的密合性或电阻成为要求水平时,不增大涂膜的厚度便不能得到充分的遮光性,在滤色器的设计上不能适用等,强烈要求解决上述问题。

本发明是鉴于上述问题点而完成的发明,其目的在于,提供一种黑矩阵用感光性树脂组合物及其制造方法,所述黑矩阵用感光性树脂组合物在上述感光性树脂组合物中,在维持高遮光、高电阻的同时,在形成细线图案的情况下充分地确保显影密合性,与玻璃基板的密合性也优异,保存稳定性也优异。

为了解决课题的手段

本发明的上述目的通过下述的手段来实现。

(1)本发明为一种滤色器黑矩阵用感光性树脂组合物的制造方法,其特征在于,预先调制具有下述(A1)~(A4)成分的(A)颜料分散体之后,将含有下述(B)~(E)成分作为必要成分的配合成分与所述(A)颜料分散体进行混合,

(A1)表面被染料包覆而成的染料包覆炭黑,

(A2)分散剂,

(A3)具有下述通式(I)的构造的含不饱和基团的碱可溶性树脂,

(A4)溶剂,

(B)含不饱和基团的碱可溶性树脂,

(C)具有烯属不饱和键的光聚合性单体,

(D)光聚合引发剂,

(E)溶剂,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新日铁住金化学株式会社,未经新日铁住金化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380011626.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top