[发明专利]抛光组合物有效
| 申请号： | 201380003983.8 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN104011155B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 细川公一郎;太田庆治;吉田昭一郎 | 申请（专利权）人： | 霓达哈斯股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司11285 | 代理人： | 钟守期,苏萌 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 | ||
【权利要求书】：
1.抛光组合物，其为抛光在绝缘层上形成的含钨金属层的抛光组合物，其包括
磨粒、
从由碘酸、亚碘酸和次碘酸组成的组中选择的一种以上的卤素酸、
强酸、
氢离子供给剂和
水。
2.权利要求1所述的抛光组合物，其中所述氢离子供给剂为从由强酸与弱碱组成的盐和弱酸组成的组中选择的一种以上。
3.权利要求1或2所述的抛光组合物，其中所述强酸为从由硝酸、盐酸和硫酸组成的组中选择的一种以上。
4.权利要求1-3中任一项所述的抛光组合物，其中所述磨粒为气相法二氧化硅。
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