[实用新型]压力测量装置以及压力测量组件

说明书

技术领域

本实用新型涉及压力测量，尤其是涉及高温熔盐回路的压力测量。

背景技术

熔盐反应堆(MSR)作为第四代堆的六种堆型之一，其冷却剂甚至是燃料本身皆是熔盐混和物。在许多设计方案中，最为推崇的是核燃料溶于熔融的氟盐冷却剂中。氟盐的工作压力较低，一般稍高于1个大气压，工作温度高达800℃，但其熔点在450℃左右，而且高温氟盐具有很强的腐蚀性，为管道测压带来很大的困难。

现有压力传感器一般采用金属膜片作为感应元件，在如此高的温度，而且有很强的腐蚀性，感应元件受到腐蚀并伴有热应力，使其无法正常工作。同时普通压力传感器要求有取压管，如果不加防护措施，将造成熔盐的凝固。即使感应元件可以与工作环境适应，其传导介质(硅油或其它油)最高耐温仅310℃，无法完成高温熔盐的压力测量。

在金属钠回路压力测量方面，专利CN102435381A进行了有关的探讨，其压力感受部件依然采用应变片，无法适用于高温腐蚀性熔盐环境。

专利CN101750181A进行了有关高温熔盐压力测量的探讨，但其使用温度不高于450℃，而且由于腐蚀和热应力的原因，隔膜膜片结构不宜在氟盐环境下使用。

实用新型内容

为解决压力感受部件热应力和腐蚀的问题，实现例如高温腐蚀性熔盐回路的压力测量，提出本实用新型。

本实用新型提供了一种压力测量装置，包括：引压管，引压管的一端延伸到待测空间内而限定引压点，引压管的另一端封闭且位于待测空间外，待测空间内容纳液体；液柱高度测量器，构造成测量引压管内从引压点到引压管内的液面的液柱高度；气体引入管，构造成将气体引入到引压管的另一端内；以及压力传感器，构造成测量引压管内的气体压力。

可选地，引压管的下端延伸到待测空间内而限定引压点，引压管的上端封闭且位于待测空间外；气体引入管构造成将气体引入到所述引压管内的液面上方。

可选地，引压管的上端延伸到待测空间内而限定引压点，引压管的下端封闭且位于待测空间外；气体引入管构造成将气体引入到所述引压管内的液面下方。

可选地，所述待测空间为熔盐反应堆中使用的熔盐回路。进一步的，所述气体引入管与气源相通，且引入到引压管内的气体压力是能够调节的。

可选地，所述引压管具有直径扩大部，所述液面位于所述直径扩大部处。

可选地，所述压力测量装置还包括保温层，围绕位于待测空间外部的引压管设置。

上述压力测量装置中，可选地，所述液柱高度测量器包括沿液柱高度方向依次布置的多对光发射端和光接收端，每一对中的光发射端和光接收端沿引压管的径向方向彼此水平相对，每一对中从光发射端发出的光被光接收端接收。进一步的，每一个光发射端和每一个光接收端均包括光纤和设置在光纤外部的套管；引压管的管壁上设置有与光发射端和光接收端对应的多个通孔，套管设置在对应的通孔内；且每一个套管在其所安装的通孔的径向外端附近与引压管的管壁焊接。或者可选地，所述液柱高度测量器包括设置在所述引压管的所述另一端的端壁的内壁上的发射端和接收端，光或者超声波从所述发射端朝向所述液面出射，由所述液面反射而进入所述光接收端。

可选地，上述压力测量装置还包括：直通终端接头，设置在待测空间的壁面上的安装孔中，所述引压管的所述一端穿过所述直通终端接头而进入到所述待测空间内。进一步地，所述引压管适于改变延伸到所述待测空间内的深度。

本实用新型还提出一种压力测量系统，包括多个上述的压力测量装置，其中多个压力测量装置中的两个压力测量装置的引压点分别位于引压管的内壁表面处以及引压管的管道中心。

本实用新型的技术方案中，由于使用了气体进行压力传导，在气体不与压力待测液体发生反应的情况下，解决了传导介质耐高温且不与压力待测液体发生化学反应的问题。

附图说明

图1是根据本实用新型的一个示例性实施例的压力测量装置的结构示意图；

图2是根据本实用新型的一个示例性实施例的压力测量装置的局部放大示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实例性的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中相同或相似的标号表示相同或相似的元件。下面参考附图描述的实施例是示例性的，旨在解释本实用新型，而不能解释为对本实用新型的限制。

如图1-2所示，本实用新型提供了一种压力测量装置，包括：

引压管1，引压管1的一端延伸到待测空间内而限定引压点A，引压管的另一端封闭且位于待测空间S外，待测空间S内容纳液体；