[实用新型]压力测量装置以及压力测量组件有效
| 申请号: | 201320727703.5 | 申请日: | 2013-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN203561474U | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
| 发明(设计)人: | 王盟;孟现珂;陈耀东 | 申请(专利权)人: | 国核(北京)科学技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | G01L7/18 | 分类号: | G01L7/18 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤雄军 |
| 地址: | 102209 北京市昌平区北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 压力 测量 装置 以及 组件 | ||
1.一种压力测量装置,其特征在于,包括:
引压管,引压管的一端延伸到待测空间内而限定引压点,引压管的另一端封闭且位于待测空间外,待测空间内容纳液体;
液柱高度测量器,构造成测量引压管内从引压点到引压管内的液面的液柱高度;
气体引入管,构造成将气体引入到引压管的另一端内;以及
压力传感器,构造成测量引压管内的气体压力。
2.根据权利要求1所述的压力测量装置,其特征在于:
引压管的下端延伸到待测空间内而限定引压点,引压管的上端封闭且位于待测空间外;
气体引入管构造成将气体引入到所述引压管内的液面上方。
3.根据权利要求1所述的压力测量装置,其特征在于:
引压管的上端延伸到待测空间内而限定引压点,引压管的下端封闭且位于待测空间外;
气体引入管构造成将气体引入到所述引压管内的液面下方。
4.根据权利要求1所述的压力测量装置,其特征在于:
所述待测空间为熔盐反应堆中使用的熔盐回路。
5.根据权利要求4所述的压力测量装置,其特征在于:
所述气体引入管与气源相通,且引入到引压管内的气体压力是能够调节的。
6.根据权利要求1所述的压力测量装置,其特征在于:
所述引压管具有直径扩大部,所述液面位于所述直径扩大部处。
7.根据权利要求1所述的压力测量装置,其特征在于,还包括:
保温层,围绕位于待测空间外部的引压管设置。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的压力测量装置,其特征在于:
所述液柱高度测量器包括沿液柱高度方向依次布置的多对光发射端和光接收端,每一对中的光发射端和光接收端沿引压管的径向方向彼此水平相对,每一对中从光发射端发出的光被光接收端接收。
9.根据权利要求8所述的压力测量装置,其特征在于:
每一个光发射端和每一个光接收端均包括光纤和设置在光纤外部的套管;
引压管的管壁上设置有与光发射端和光接收端对应的多个通孔,套管设置在对应的通孔内;且
每一个套管在其所安装的通孔的径向外端附近与引压管的管壁焊接。
10.根据权利要求8所述的压力测量装置,其特征在于:
所述液柱高度测量器包括设置在所述引压管的所述另一端的端壁的内壁上的发射端和接收端,光或者超声波从所述发射端朝向所述液面出射,由所述液面反射而进入所述光接收端。
11.根据权利要求1-7中任一项所述的压力测量装置,其特征在于,还包括:
直通终端接头,设置在待测空间的壁面上的安装孔中,所述引压管的所述一端穿过所述直通终端接头而进入到所述待测空间内。
12.根据权利要求11所述的压力测量装置,其特征在于:
所述引压管适于改变延伸到所述待测空间内的深度。
13.一种压力测量系统,其特征在于,包括多个根据权利要求1-12中任一项所述的压力测量装置,其中多个压力测量装置中的两个压力测量装置的引压点分别位于引压管的内壁表面处以及引压管的管道中心。
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