[实用新型]一种真空镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型属于机械技术领域，涉及一种真空镀膜机。

背景技术

随着科学技术的发展，电子设备的显示屏性能不断提升，并且出现了利用人手直接触摸控制的触摸屏。在实际的使用过程中，显示屏容易沾染外界的灰尘等污物，触摸屏更容易在触摸后留下指纹或者产生划痕。为提高显示屏的耐磨和耐脏性能，通常采用真空镀膜的方式在显示屏表面镀附一层高耐磨防指纹的涂层。

真空镀膜是将真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，从而形成一层薄膜的技术。现有的真空蒸发镀膜设备包括真空罩和抽真空装置，真空罩内具有一个用于蒸发镀膜材料的蒸发源，待镀膜的基片定位在蒸发源的前方。镀膜过程中，真空罩被抽至高真空，蒸发源中的物质蒸发，蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面形成一层薄膜。在镀膜的过程中，可以采用多个蒸发源或者旋转基片的方式保证膜层厚度的均匀性。

为了提高镀膜生产效率，有人提出了使工件架自转同时相对于蒸发源公转的镀膜形式。例如，中国专利【申请号200820028638.6；授权公告号CN 201195744Y】公开的一种真空镀膜机的工件三维转动支架，包括有动力输入轴、公转盘支撑座、公转转动轴承、公转盘转动连接盘、公转盘，在公转盘上设有工件转盘支撑杆，工件转盘支撑杆上方设有上支架，工件杆通过转动支撑座与上支架连接，工件杆上设置有工件旋转轴，其特点是在公转盘上设有工件自转和工件旋转机构，公转盘转动连接盘与自转齿轮盘固连。

上述的真空镀膜机的工件三维转动支架实现了工件的公转、自转、旋转的动作，提高了镀膜的生产效率。但是，该结构真空镀膜机的工件三维转动支架存在的问题在于：1、转动支架公转时还有较大的空间未被充分利用，工件镀膜的产能还可以进一步提高；2、转动支架自转轴线方向的多个工件与蒸发源的距离各不相同，靠近蒸发源的工件挡住远离蒸发源的工件，需要蒸发源提供更多的镀膜材料；3、无论是公转、自转、旋转，在转轴上定位工件，导致转轴在转动过程中会出现不同程度的晃动，进而使镀工件表面的薄膜均匀程度下降。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种真空镀膜机，本实用新型解决的技术问题是提高镀膜机的产能。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种真空镀膜机，包括真空罩和用于使真空罩内部保持真空状态的真空系统，所述真空罩内设置有伞架和蒸发源，其特征在于，所述伞架包括能够周向转动的转盘和若干个工件架，所述工件架分别与转盘通过各自转轴一相连，所述工件架沿转盘周向呈伞状分布，本真空镀膜机还包括能使工件架随着转盘周向转动的同时绕转轴一的中心线转动的驱动机构。

本真空镀膜机的工作原理是：镀膜加工之前，先将待镀膜工件定位在工件架上，真空系统将真空罩内部抽真空，并使其保持真空状态。镀膜加工开始后，驱动机构带动工件架随转盘周向转动的同时绕转轴一的中心线转动，蒸发源将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到工件架处，附着在温度较低的待镀膜工件上，形成厚薄均匀的薄膜。由于工件架沿转盘周向呈伞状分布，减少了伞架占用的空间，增大了工件架对蒸发材料的接受面积；并且，工件架能够随着转盘周向转动的同时绕转轴一的中心线转动，工件架上的正反两面均能装载待镀膜工件，增加了工件架的装载数量。因此，本真空镀膜机的产量更高，经济效益更好。

在上述的真空镀膜机中，所述驱动机构包括锥齿齿盘和驱动电机，所述锥齿齿盘与真空罩固定连接，所述驱动电机通过传动副与转盘相连，所述转轴一端部分别设置有与上述锥齿齿盘配合的锥齿轮。通过锥齿轮的传动，使工件架随着转盘转动后能够到转轴一准确地转过相应的角度。

作为另一种方案，在上述的真空镀膜机中，所述驱动机构包括摩擦轨道和驱动电机，所述摩擦轨道周向分布在真空罩内壁，所述驱动电机通过传动副与转盘相连，所述工件架另一端设置有与转轴一中心线位于同一直线上的转轴二，上述转轴二的端部固连有摩擦轮，上述摩擦轮能在所述摩擦轨道内滚动使基板绕转轴一和转轴二中心线转动。工件架随转盘转动的过程中，转轴二沿着摩擦轨道周向运动，并且固定在转轴二上的摩擦轮在摩擦力的作用下带动转轴二绕自身中心线方向转动，从而带动工件架绕转轴一和转轴二的中心线方向转动；工件架通过转轴一和转轴二的定位结构简单，拆装方便。

作为另一种方案，在上述的真空镀膜机中，所述驱动机构包括自转电机和公转电机，所述公转电机通过传动副与转盘相连，所述自转电机分别通过传动副与转轴一相连。自转电机和公转电机分别带动工件架自转和公转，通过自动控制设备能够实现工件架自转和公转的精确控制。