[实用新型]一种用于AMOLED聚合物衬底的抗激光损伤薄膜结构

权利要求书

1.一种用于AMOLED聚合物衬底的抗激光损伤薄膜结构，其设置于聚合物衬底上，其特征在于，所述薄膜结构包括叠加的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层，其中所述的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层在所述聚合物衬底上均设置至少两层，所述薄膜结构的顶层和底层均为所述的高折射率薄膜层。

2.根据权利要求1所述的抗激光损伤薄膜结构，其特征在于，所述聚合物衬底上所沉积的所述高折射率薄膜层和低折射率薄膜层呈交替分布。

3.根据权利要求1或2所述的抗激光损伤薄膜结构，其特征在于，所述高折射率薄膜层和低折射率薄膜层中的每层膜厚t均满足t=zλ_H或L/4，其中z为奇数，λ_H或L为准分子激光退火所用激光在所述的高折射率薄膜层或低折射率薄膜层内的波长。

4.根据权利要求3所述的抗激光损伤薄膜结构，其特征在于，各所述的高折射率薄膜层为氮化硅薄膜层、二氧化钛薄膜层、五氧化二钽薄膜层、氧化锆薄膜层、钛酸镧薄膜层、氧化铪薄膜层和硒化锌薄膜层中的一种或其中任意几种的组合。

5.根据权利要求4所述的抗激光损伤薄膜结构，其特征在于，各所述的低折射率薄膜层为氟化镁薄膜层、氧化硅薄膜层、氧化铝薄膜层和氮化钛薄膜层中的一种或其中任意几种的组合。

6.根据权利要求5所述的抗激光损伤薄膜结构，其特征在于，所述的高折射率薄膜层为3-10层，所述的低折射率薄膜层为2-8层。