[实用新型]一种用于f-θ光学系统畸变的标定装置

权利要求书

1.一种用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述装置包括依次设置的转台、转台上的导轨、被标定的光学系统物方的目标发生器、被标定光学系统的像方的像分析器。 

2.根据权利要求1所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述目标发生器包括依次设置在导轨上的光源、准直镜、滤光片、聚光镜、星孔板以及目标微缩镜，所述光源、准直镜、滤光片、聚光镜、星孔板以及目标微缩镜设置在同一光轴上。 

3.根据权利要求2所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述像分析器包括成像物镜、探测器以及三维移动支架；所述成像物镜根据一定的成像关系与探测器连接，所述成像物镜和探测器设置在三维移动支架上。 

4.根据权利要求1或2或3所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述装置还包括计算单元，所述计算单元包括计算机。 

5.根据权利要求4所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述像分析器和计算机设置在平台上，所述像分析器的前端设置用于固定f-θ光学系统的专用工装。 

6.根据权利要求5所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述转台和导轨是手动形式或者电动控制。 

7.根据权利要求6所述的用于f-θ光学系统畸变的标定装置，其特征在于：所述目标发生器外部设置黑箱，所述黑箱是进行发黑处理的金属箱体或者黑布罩。