[实用新型]一种大片OGS基板有效
申请号: | 201320532354.1 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN203490669U | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 王进东 | 申请(专利权)人: | 江苏宇天港玻新材料有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 朱庆华 |
地址: | 223100 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大片 ogs 基板 | ||
技术领域
本实用新型涉及触控面板技术领域,特别涉及一种大片OGS基板。
背景技术
OGS(单片式触控面板),单玻璃全贴合技术,在保护玻璃上直接形成ITO( Indium tin oxide)氧化铟锡透明导电薄膜及传感器的技术。一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。从技术层面来看,OGS技术较之目前主流的G/G(玻璃电容)触控技术具备以下优势:结构简单,轻、薄、透光性好;由于省掉一片玻璃基板以及贴合工序,利于降低生产成本、提高产品良率。由于市场普遍采用丝印银浆(silver paste)、镀铜以及镀金属氧化物作为OGS边框走线,银是极度氧化的物质,附着性差,铜导电性好,但工艺复杂成本高,附着性差,易老化。金属氧化物导电性自然没有金属好。
实用新型内容
本实用新型提出一种大片OGS基板,抗氧化能力强,成本低,适合大片规模生产。本实用新型所采用的技术方案具体是这样实现的:
本实用新型提供了一种大片OGS基板,基板的一面为感应面、背离感应面的一侧为触摸面,所述感应面侧包括直接形成于基板上边框处的图案化的黑色边框层、图案化的ITO层、直接形成于所述黑色边框层上方的钼铝钼层、以及形成于所述钼铝钼层及所述ITO层上的保护层,所述大片OGS基板的OGS边框走线材料为形成于所述黑色边框层上方的钼铝钼层。
本实用新型的大片OGS基板,大大提高产品的生产效率,大大节省能源浪费,降低生产成本并提高产能;钼铝钼形式的边框走线为溅射镀膜方式溅镀上去的,附着力更好,均匀性更佳,埃米级薄膜,更薄;抗氧化能力强,线阻抗更小,导电性佳,耗电量越小,电池续航能力自然提高,使用时间久;钼铝钼刻线为黄光曝光工艺,偏移量小,精度高,适合高端产品。本实用新型的大片OGS基板使得附着力更牢,抗氧化能力强,使用长久。
附图说明
图1是本实用新型具体实施例的大片OGS基板的结构示意图。
图2是本实用新型具体实施例的大片OGS基板的生产方法流程图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明,使本实用新型的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按比例绘制附图,重点在于示出本实用新型的主旨。
图1是本实用新型具体实施例的大片OGS基板的结构示意图,如图1所示,本实用新型具体实施例的大片OGS基板,基板10的一面为感应面、背离感应面的一侧为触摸面,感应面侧包括直接形成于基板10上边框处的图案化的黑色边框层20、图案化的ITO层40、直接形成于黑色边框层20上方的钼铝钼层30、以及形成于钼铝钼层30及ITO层40上的保护层50,大片OGS基板的OGS边框走线材料为形成于黑色边框层20上方的钼铝钼层30,黑色边框层20和钼铝钼层30位于基板边框的两端。
图2是本实用新型具体实施例的大片OGS基板的生产方法流程图,下面结合图2对本实用新型具体实施例的大片OGS基板的生产方法作详细说明:
本实用新型的大片OGS基板的生产方法,具体步骤如下:
步骤a:基板强化。
步骤b:制作黑色边框层。
采用黄光制程或丝网印刷制作基板感应面的图案化的黑色边框层。
步骤c:溅射ITO层。
送入镀膜车间,基板的感应面溅射ITO层。
步骤d:ITO 层涂覆光阻、经过曝光、显影、蚀刻和光阻剥离(ITO Photo/Etch)。
送入黄光车间,对基板感应面ITO层进行涂覆光阻、曝光、显影和ITO层蚀刻和光阻剥离。
步骤e:钼铝钼镀膜。
基板感应面钼铝钼镀膜,形成钼铝钼金属层。
步骤f:钼铝钼金属层涂覆光阻、曝光、显影、蚀刻和光阻剥离(Metal Photo/Etch)。
送入黄光车间,对基板感应面钼铝钼金属层进行涂覆光阻、钼铝钼金属层曝光、显影、蚀刻和光阻剥离。
步骤g:涂布保护层。
基板感应面溅射或涂布保护层。
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