[实用新型]绝缘栅双极型晶体管有效
申请号: | 201320220806.2 | 申请日: | 2013-04-26 |
公开(公告)号: | CN203481235U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 霍尔格·豪斯肯;汉斯-约阿希姆·舒尔茨;弗兰克·普菲尔什 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 德国瑙伊*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘 栅双极型 晶体管 | ||
1.一种绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,包括:
有源区域(20),所述有源区域(20)包括:
本体区(24),所述本体区(24)具有第一导电类型;
具有与所述第一导电类型不同的第二导电类型的源区(25),与所述本体区(24)形成第一pn结;
具有与所述第一导电类型不同的所述第二导电类型的漂移区(23),被设置在所述本体区(24)的与发射极侧相对的一侧,并且与所述本体区(24)形成第二pn结;
至少一个沟槽(23'),在所述漂移区(23)内延伸,其中所述至少一个沟槽内填充有栅极(26),并且其中所述至少一个沟槽具有第一沟槽部(23a),第一沟槽部(23a)具有第一宽度;以及第二沟槽部(23b),第二沟槽部(23b)具有第二宽度,所述第二宽度不同于所述第一宽度;以及
其中,所述本体区与所述漂移区之间的所述第二pn结位于所述绝缘栅双极型晶体管中的第二深度;以及
终端区域(10),位于所述有源区域(20)的外围,并包括具有所述第一导电类型的掺杂区(11)以及具有所述第二导电类型的体块区(12),并且其中,所述掺杂区(11)在所述绝缘栅双极型晶体管中朝向所述体块区(12)延伸至第一深度,
其中,所述第一深度比所述第二深度深。
2.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,
所述至少一个沟槽(23')在所述漂移区(23)内延伸至第三深度;以及
其中,所述第一深度比所述第三深度深。
3.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,
所述至少一个沟槽(23')在所述漂移区(23)内延伸至第三深度;以及
其中,所述第三深度比所述第一深度深。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述第二沟槽部(23b)在所述绝缘栅双极型晶体管(2,3)的纵向方向上布置在所述第一沟槽部(23a)的下面,并且其中在所述绝缘栅双极型晶体管(2,3)的横向方向上,所述第二宽度大于所述第一宽度。
5.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述第一沟槽部(23a)的所述第一宽度沿着所述第一沟槽部是均匀的宽度。
6.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述第一沟槽部(23a)与所述本体区(24)邻接,以及所述第二沟槽部(23b)邻接于所述本体区(24)和所述漂移区(23)。
7.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述第一沟槽部(23a)与所述本体区(24)和所述漂移区(23)邻接,以及所述第二沟槽部(23b)邻接于所述漂移区(23)。
8.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述至少一个沟槽包括将所述栅极(26)与至少所述源区(25)和所述本体区(24,34)电绝缘的绝缘层(27)。
9.根据权利要求1所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,所述终端区域(10)包括在所述体块区(12)中延伸的多个所述掺杂区(11)。
10.根据权利要求9所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,多个所述掺杂区(11)中的至少一个延伸至的深度小于所述第一深度。
11.根据权利要求10所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,还包括:
集电区(21),包括:
第一部分(21a),所述第一部分(21a)位于所述有源区域(20)中并在所述漂移区(23)的与所述本体区相对的下侧延伸,并具有所述第一导电类型;以及
第二部分(21b),所述第二部分(21b)位于所述终端区域(10)中并在所述体块区(12)的下侧延伸,并具有所述第一导电类型,
其中,所述第一部分(21a)的掺杂浓度高于所述第二部分(21b)的掺杂浓度。
12.根据权利要求11所述的绝缘栅双极型晶体管(2,3),其特征在于,
所述第二部分(21b)的掺杂浓度为零。
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