[实用新型]晶圆放置装置有效
申请号: | 201320188552.0 | 申请日: | 2013-04-15 |
公开(公告)号: | CN203218237U | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 邬璐磊;闫晓东;丁杰 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放置 装置 | ||
1.一种晶圆放置装置,其特征在于,包括:
盒体,所述盒体内设置有若干卡槽,所述卡槽用于固定待放置的晶圆;
框体,所述框体连接于所述盒体的两侧,所述框体内设置有若干滑道,每一个所述滑道的方向与一个所述卡槽突起的方向相一致;
以及至少两个定位装置,所述定位装置能够从所述滑道滑入卡槽中。
2.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述卡槽两两相对位于同一层上,所述晶圆放置装置具有两个定位装置,所述两个定位装置分别从两个滑道滑入同一层的卡槽中。
3.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述定位装置的尺寸与卡槽间的间隔及晶圆厚度相适配。
4.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述定位装置为滑块。
5.如权利要求4所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述滑块为台阶形状。
6.如权利要求5所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述滑块的宽度为4~6mm,所述滑块包括上台阶和下台阶,所述上台阶的高度为3.3~5mm,所述下台阶的高度为1.6~3.2mm,上台阶的长度为2.5~4.5mm,下台阶的长度为0.5~2.5mm。
7.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述框体的尺寸与盒体及定位装置的尺寸相适配。
8.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述框体的形状为长方形。
9.如权利要求8所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述框体的长度为4.5~6.5mm,宽度为4~6mm,高度为175~195mm。
10.如权利要求1所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述滑道的宽度与所述定位装置的高度相适配,所述滑道的间隔与所述卡槽的间隔相适配。
11.如权利要求10所述的晶圆放置装置,其特征在于,所述滑道的宽度为3~5mm,所述滑道的间隔为4~6mm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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