[实用新型]喷嘴清洗装置以及涂布装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种喷嘴(nozzle)清洗装置以及涂布装置。

背景技术

例如，当在太阳能电池用面板(panel)基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置用玻璃基板、液晶显示装置用玻璃基板、等离子体显示器面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、光罩(photo mask)用玻璃基板、光盘用基板等基板的表面涂布涂布液时，使用狭缝喷嘴(slit nozzle)，该狭缝喷嘴具有狭缝状的涂布液喷出口及靠近该涂布液喷出口的倾斜面，在与基板表面靠近的状态下沿水平方向移动，从而在该基板的表面涂布涂布液。

在使用此种狭缝喷嘴的涂布装置中，当持续执行涂布液的涂布时，在狭缝喷嘴中的狭缝状的涂布液喷出口附近，会有因涂布液造成的废物附着。因此，采用如下结构：每隔固定时间，通过喷嘴清洗装置来清洗附着有废物的涂布液喷出口。

在专利文献1中，公开了一种喷嘴清洗装置，其具备可抵接于狭缝喷嘴的下端部下表面的下表面清洗刷(brush)、可抵接于狭缝喷嘴的下端部右侧面的右侧面清洗刷、可抵接于狭缝喷嘴的下端部左侧面的左侧面清洗刷。

在专利文献2中，公开了一种带有清洗装置的涂布装置，其通过喷出双流体的双流体喷嘴来清洗狭缝喷嘴，所述双流体是将作为清洗药液的N-甲基吡咯烷酮(N-Methyl Pyrrolidone，NMP)与作为非活性气体的氮混合而成。

在专利文献3中，公开了一种涂布喷嘴的清洗装置，其具备与清洗液的供给源相连的狭缝及氮气的喷出孔，能够执行涂布喷嘴的清洗与干燥。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2008-290031号公报

专利文献2：日本专利4792787号公报

专利文献3：日本专利特开平9-330876号公报

实用新型内容

要解决的技术课题

根据专利文献1中公开的喷嘴清洗装置，虽能够将喷嘴清洗干净，但例如当使用如用于太阳能电池用面板基板的密封剂或纳米金属墨料(nano metal ink)般高粘度的涂布液时，会产生难以去除附着于清洗刷的涂布液的问题。

与此相对，如专利文献2或专利文献3中公开的，采用对喷嘴喷出清洗液或气体的清洗装置时不会产生此类问题，但若清洗液或气体相对于喷嘴的喷出角度不适当，则会产生无法将喷嘴清洗得足够干净的问题。

本实用新型是为了解决上述问题而完成，其目的在于提供一种喷嘴清洗装置以及涂布装置，实现将清洗液与气体以适当的角度供给至狭缝喷嘴，能够将狭缝喷嘴清洗干净。

解决课题的手段

技术方案1所述的实用新型是一种喷嘴清洗装置，用于清洗狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴具有狭缝状的涂布液喷出口及靠近所述涂布液喷出口的倾斜面，且对基板涂布涂布液，所述喷嘴清洗装置包括：第1及第2板状构件，彼此相向地配置，从而形成狭缝状的气体喷出口；以及第3板状构件，与所述第2板状构件相向地配置，从而形成狭缝状的清洗液喷出口，将从所述第1板状构件与所述第2板状构件之间所形成的气体喷出口喷出的气体、和从所述第2板状构件与所述第3板状构件之间所形成的清洗液喷出口喷出的清洗液混合而生成的液滴喷出至所述狭缝喷嘴中的倾斜面，并且，在所述第3板状构件中的与所述第2板状构件相反的一侧，形成有朝大气开放的空间区域。

技术方案2所述的实用新型是根据技术方案1所述的实用新型，其中包括：位置调整机构，使所述第3板状构件相对于所述第2板状构件而朝从所述清洗液喷出口喷出的清洗液的喷出方向移动，从而调整所述第3板状构件的位置。

技术方案3所述的实用新型是根据技术方案2所述的实用新型，其中，在所述第1板状构件中的与所述第2板状构件相反的一侧，配设包围所述狭缝喷嘴中的倾斜面的罩，并且具备吹洗(purge)机构，所述吹洗机构向所述罩中的与所述第1板状构件相反的一侧的区域供给气体。

技术方案4所述的实用新型是一种喷嘴清洗装置，用于清洗狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴具有狭缝状的涂布液喷出口及靠近所述涂布液喷出口的倾斜面，且对基板涂布涂布液，所述喷嘴清洗装置包括：混合部，将清洗液与气体予以混合；以及第1及第2板状构件，彼此相向地配置，从而形成狭缝状的喷出口，从形成在所述第1板状构件与所述第2板状构件之间的喷出口，将由所述混合部混合的清洗液与气体而生成的液滴喷出至所述狭缝喷嘴中的倾斜面，并且，在所述第2板状构件中的与所述第1板状构件相反的一侧，形成有朝大气开放的空间区域。