[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括：

基板；

直接设置在所述基板上的色阻层，所述色阻层包括具有不同颜色的色阻；

直接设置在所述色阻层上的黑矩阵，所述黑矩阵位于所述相邻色阻之间。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括覆盖所述色阻层和所述黑矩阵的平坦化层。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的中心轴线与相邻所述色阻的边界的距离小于等于1.5μm。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的中心轴线与相邻所述色阻的边界对齐。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的宽度为3μm～4.5μm。

6.一种彩膜基板的制造方法，包括：

步骤1，提供一基板；

步骤2，在所述基板上直接形成色阻层；

步骤3，在所述色阻层上直接形成黑矩阵，所述黑矩阵位于所述相邻色阻之间。

7.如权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述步骤2包括：在所述基板上直接覆盖第一颜色色阻层，图案化所述第一颜色色阻层形成第一颜色色阻，接着覆盖第二颜色色阻层，图案化所述第二颜色色阻层形成第二颜色色阻，然后覆盖第三颜色色阻层，图案化所述第三颜色色阻层形成第三颜色色阻。

8.如权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述步骤3包括：在所述色阻层上直接沉积黑色光阻层，图案化所述黑矩阵层形成黑矩阵。

9.如权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，在步骤3之后还包括：在所述黑矩阵和所述色阻层上涂覆一层平坦化层。

10.一种显示装置，包括如权利要求1～5所述的任意一种彩膜基板，与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。