[发明专利]蒸镀设备及其蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201310746560.7 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103695848A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 赵德江;崔伟;王路 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 设备 及其 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示装置制备技术领域,具体涉及一种蒸镀设备及其蒸镀方法。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)显示装置由于具有自发光、无需背光模组、对比度以及清晰度高、视角宽、全固化、适用于挠曲性面板、温度特性好、低功耗、响应速度快以及制造成本低等一系列优异特性,已经成为新一代平面显示装置的重点发展方向之一,因此日益受到越来越多的关注。

现有技术中,OLED显示器件的基本结构包括阳极层,功能膜层以及阴极层等;上述功能膜层包括:空穴传输层、有机发光层以及电子传输层等;其中,有机发光层的成膜方法有很多种,包括蒸镀成膜法、分子束外延法、有机化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等;其中,蒸镀成膜法由于具有操作简单、膜厚容易控制、对薄膜的污染小以及易于实现掺杂等优点,现有技术中多采用蒸镀成膜法形成有机发光层等有机功能膜层,即在真空环境下,将有机材料加热使其蒸发(升华),并沉积到目标基板上形成对应的功能膜层。

如图1中所示,为现有技术中一种蒸镀设备的结构示意图;其主要包括蒸发源以及与蒸发源连通的喷射机构;所述蒸发源用于提供有机蒸汽,所述喷射机构用于将输入的有机蒸汽喷射到基板11上形成有机镀膜;其中,喷射机构主要包括若干个喷嘴21。

为了保证最终形成在基板上的有机镀膜具有均匀的膜厚,上述若干个喷嘴需要能够均匀的将有机蒸汽喷射到基板上。但是,由于各个喷嘴与蒸发源的距离不同,因此各喷嘴的有机蒸汽的实际供给也有所不同;例如,位于蒸发源正上方的喷嘴,由于距离蒸发源最近,蒸发源提供的大量有机蒸汽可以直接到达该喷嘴处,因此有机蒸汽的实际供给较为丰富;而位于喷射机构边缘的喷嘴,由于距离蒸发源最远,蒸发源提供的有机蒸汽需要较长的路径才可以到达该喷嘴处,因此只有少量的有机蒸汽提供给该喷嘴。这样,为了使所有喷嘴能够均匀的将有机蒸汽喷射到基板上,需要根据喷嘴与蒸发源的距离调整喷嘴的大小;例如,位于蒸发源正上方的喷嘴较小,而位于喷射机构边缘的喷嘴则较大。然而这样一方面限制了喷射机构的最大喷射速率,另一方面,由于小喷嘴容易出现堵塞故障,因此增加了喷射机构乃至整个蒸镀设备的故障率。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的在于针对背景技术中的部分或者全部问题,提供一种能够减少喷射机构出现堵塞故障的蒸镀设备,从而提升蒸镀设备的可靠性。

(二)技术方案

根据本发明的一个方面,提供了一种蒸镀设备,包括依次设置的蒸发源、蒸汽循环机构以及喷射机构;所述蒸发源用于提供有机蒸汽;所述蒸汽循环机构用于使所述蒸发源提供的有机蒸汽循环流动;所述喷射机构与所述蒸汽循环机构连通,用于将所述蒸汽循环机构中的有机蒸汽喷射到基板上形成有机镀膜。

优选的,所述蒸汽循环机构包括闭环的蒸汽循环管道以及用于驱动有机蒸汽在所述蒸汽循环管道中循环流动的驱动装置。

优选的,所述蒸汽循环管道内设置有气压计。

优选的,还包括设置在所述蒸发源与蒸汽循环机构之间的蒸汽存储机构;所述蒸汽存储机构用于存储所述蒸发源提供的有机蒸汽并可控的输入至所述蒸汽循环机构。

优选的,所述蒸汽存储机构的输出端设置有用于控制所述有机蒸汽输出流量的流量控制机构。

优选的,所述流量控制机构为线性调节阀。

优选的,还包括用于将所述蒸汽存储设备内的有机蒸汽维持在预定温度范围内的控温机构。

优选的,还包括设置在所述蒸发源与蒸汽存储机构之间的蒸汽输运泵。

优选的,所述蒸发源为线性蒸发源。

优选的,所述线性蒸发源包括蒸发容器以及线性加热源。

优选的,还包括用于控制所述蒸镀设备整体温度的加热以及冷凝机构。

根据本发明的另一方面,提供了一种利用上述蒸镀设备进行蒸镀的方法,其特征在于,包括:对蒸发源进行加热,从而蒸发出有机蒸汽;当需要进行蒸镀时,将所述有机蒸汽按照指定的流量输入至蒸汽循环机构,并使所述有机蒸汽循环流动;将循环流动的所述有机蒸汽通过喷射机构以稳定的速率蒸镀到目标基板上。

优选的,在所述蒸发出有机蒸汽之后且在所述进行蒸镀之前,还包括:将所述有机蒸汽输运至蒸汽存储机构,直至蒸汽存储机构中的有机蒸汽压强达到预设压强值。

优选的,在蒸镀过程中还包括:控制蒸汽存储机构输出所述有机蒸汽的流量,以实现对蒸镀速率调整。

优选的,在蒸镀过程中还包括:使所述目标基板保持一定的速度在所述喷射机构上方往复运动。

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