[发明专利]一种显示面板及其驱动方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其驱动方法和显示装置。

背景技术

OLED（Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管）显示装置是一种新兴的平板显示装置，相比液晶显示器（Liquid Crystal Display：简称LCD），OLED因为能自发光而不需要背光源，因此相对LCD来说具有更低的功耗。

OLED显示装置中OLED像素结构一般以矩阵排列方式，按照驱动方式的不同，可以分为无源矩阵（Passive Matrix Organic Light Emission Display，简称PMOLED）驱动方式和有源矩阵（Active Matrix Organic Light Emission Display，简称AMOLED）驱动方式。相对PMOLED像素结构，AMOLED像素结构具有分辨率高、精度高等优点。

目前，OLED在制造过程中,通常采用FMM(Fine Metal Mask，高精度金属掩模板)作为蒸镀掩模板，将发光材料进行蒸镀形成发光层。蒸镀掩模板的开口区域对应着在一个子像素中发光材料的沉积区，开口区域越小意味着子像素能做得越小，相应地能获得更小的像素，从而PPI（Pixels Per Inch，每英寸像素数目）就越高，分辨率和精度也越高。一个事实是，由于FMM掩模板具有一定的厚度，导致开口区域不能做的太小；另一个事实是，使用较小厚度的蒸镀掩模板进行蒸镀工艺时，产品良率很低。

同时，目前用于AMOLED像素结构真空镀膜的蒸镀掩模板主要是采用INVAR（因瓦合金，也可简称为Invar，是一种重要的结构材料）金属材料形成，由于INVAR金属材料的获取很不容易，使用INVAR金属材料的成本很高,并且蒸镀掩模板的厚度过大导致Rib区域即遮挡区域的宽度无法做小，以致于AMOLED产品的PPI无法大幅提升。

图1所示为现有技术中蒸镀掩模板的平面图（上图）和剖视图（下图，沿上图的A-A方向剖切），图1中，空白区域为蒸镀掩模板中的遮挡区域6（对应着非蒸镀区，即图1的上图中的矩形、下图中以Rib Width和Slit Width为底边的剖面梯形），交叉图形区域为掩模板中的开口区域7（对应着蒸镀区，即图1中的Slit Space，简称SP）。具体的，蒸镀工艺中受蒸镀掩模板影响的原因在于：当使用图1所示的蒸镀掩模板对镀膜进行遮挡（对应遮挡区域6）时，在一次蒸镀工艺中挡住形成一个像素单元（包括R、G、B三个子像素）中的其中任意两个子像素的镀膜,蒸镀掩模板在平面图中的开口区域7，相对蒸镀掩模板在剖视图中厚度方向上的夹角θ（即坡度）的大小对蒸镀效果的影响更大。具体原因分析如下：

蒸镀掩模板的遮挡区域6的宽度为：

b+2*a=b+2*d*ctan(θ)......（1）

在公式（1）中，蒸镀掩模板在厚度方向上的夹角θ的范围一般为40°-60°。

像素间距（Pixel Pitch，包括三个子像素(3Sub Pixel)）的宽度为：

Rib Width+SP≌1.5*Rib Width=1.5*(b+2*d*ctan(θ))...（2）

在公式（2）中，b主要受刻蚀工艺精度等条件限制,所以限制像素间距不能做得足够小的主要因素为蒸镀掩模板的厚度d。

像素精度PPI为：

PPI=25.4/Min.SP/3......（3）

目前，INVAR金属材质的蒸镀掩模板的厚度通常为40μm，最薄为30μm。即使采用最薄厚度的蒸镀掩模板,目前PPI依然无法大幅提升,而且采用最薄厚度的蒸镀掩模板，造成其宽度无法保持原先的水平,反而会导致产品良率降低。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示面板及其驱动方法和显示装置，该显示面板在使用蒸镀掩模板（FMM Mask）制备时，蒸镀难度降低，在保证显示装置的显示质量的同时，提高了产品良率。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是该显示面板，包括三种不同颜色的子像素排成的矩阵结构，其中，两个相同颜色的所述子像素作为一个组合，三种不同颜色的组合在行方向上依次排列，且两相邻行中相同颜色的组合以错开一个或三个所述子像素的位置设置。

优选的是，所述显示面板包括多个所述像素单元，每个所述像素单元包括三个不同颜色的所述子像素，每一所述像素单元中的三个所述子像素排列为两行，且每一所述像素单元中，至少一个子像素与相邻像素单元中同种颜色的子像素相邻。