[发明专利]PECVD镀膜装置的电极结构有效
| 申请号: | 201310722398.5 | 申请日: | 2013-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN103741120A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
| 发明(设计)人: | 吕旭东;陈立国;李海燕;张受业;陈伟岸;贺艳;赵萌;朱惠钦 | 申请(专利权)人: | 北京北印东源新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙) 11417 | 代理人: | 刘元霞 |
| 地址: | 101407 北京市怀柔*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | pecvd 镀膜 装置 电极 结构 | ||
1.一种PECVD镀膜装置的电极结构,其特征在于,包括:
第一电极对,所述第一电极对包括相对设置的第一电极辊和第二电极辊,所述第一电极辊内设置有第一内磁路,所述第二电极辊内设置有第二内磁路;
第二电极对,所述第二电极对的两个电极的中心连线与所述第一电极辊和第二电极辊的中心连线相互垂直并对称布置。
2.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述第二电极对包括第一电极和第二电极,所述第一电极内置有第三内磁路,所述第二电极内置有第四内磁路。
3.根据权利要求2所述的电极结构,其特征在于,所述第一电极辊内设置有四个磁极,所述第二电极辊内设置有四个磁极,所述第一电极辊内的四个磁极与所述第二电极辊内的四个磁极一一对应设置,所述第一电极辊内的各磁极与所述第二电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路。
4.根据权利要求3所述的电极结构,其特征在于,所述第一电极内设置有四个磁极,所述第二电极内设置有四个磁极,所述第一电极内的四个磁极与所述第二电极内的四个磁极一一对应设置,所述第一电极内的朝向所述第一电极辊的磁极与所述第一电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路,所述第一电极内的朝向所述第二电极辊的磁极与所述第二电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路,所述第二电极内的朝向所述第一电极辊的磁极与所述第一电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路,所述第二电极内的朝向所述第二电极辊的磁极与所述第二电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路。
5.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述第二电极对包括第一电极和第二电极,所述第一电极和所述第二电极沿所述第一电极辊和所述第二电极辊的中心连线对称设置,且所述第一电极和所述第二电极的中心连线经过所述第一电极辊和所述第二电极辊的中心连线的中心。
6.根据权利要求5所述的电极结构,其特征在于,所述第一电极辊内设置有四个磁极,所述第二电极辊内设置有四个磁极,所述第一电极辊内的四个磁极与所述第二电极辊内的四个磁极一一对应设置,所述第一电极辊内的各磁极与所述第二电极辊内的相应的磁极之间形成磁回路。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的电极结构,其特征在于,所述第一电极对的两个电极辊为同电位,所述第二电极对的两个电极为同电位,放电在所述电极与所述电极辊之间进行。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的电极结构,其特征在于,所述电极结构包括四个进气管,所述四个进气管分别设置在相邻的所述电极辊和所述电极之间,且所述四个进气管均位于所述电极辊和所述电极所形成的放电区域外,各所述进气管的开口朝向所述放电区域。
9.根据权利要求8所述的电极结构,其特征在于,所述四个进气管沿所述第一电极辊和所述第二电极辊的对称中心周向均匀设置。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的电极结构,其特征在于,所述电极结构包括进气管,所述进气管设置在所述第一电极辊和所述第二电极辊的对称中心。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





