[发明专利]具有提高光学三阶非线性品质因数的低温二氧化锗-有机改性硅酸盐复合材料的制备方法有效
申请号: | 201310721845.5 | 申请日: | 2013-12-23 |
公开(公告)号: | CN103744250A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 阙文修;高恬溪 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | G02F1/355 | 分类号: | G02F1/355 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 提高 光学 非线性 品质因数 低温 氧化 有机 改性 硅酸盐 复合材料 制备 方法 | ||
1.一种具有提高光学三阶非线性品质因数的低温二氧化锗-有机改性硅酸盐复合材料的制备方法,其特征在于:
1)首先将1摩尔的γ-(2,3环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、3-6摩尔的乙醇和3-6摩尔的去离子水混合,然后再向其中加入0.01摩尔的盐酸不断搅拌均匀后作为溶液A;
将1摩尔异丙醇锗和4-6摩尔2-甲氧基乙醇混合并不断搅拌均匀后作为溶液B;
2)然后将溶液A与溶液B按4:1的摩尔比混合后搅拌,得到均匀含硅锗的低温有机-无机复合基质母液;
3)低温有机-无机复合基质母液中加入其重量0.5-2%的光功能染料小分子,在室温下搅拌均匀从而得到备用的悬浊液;
4)利用旋转涂层工艺在转速为每分钟3000-4000转的情况下将上述得到的悬浊液沉积在载玻片上,然后将沉积好的薄膜样品在45-55℃下处理10-20分钟,即得到具有单层而且表面光滑平整、具有提高光学三阶非线性品质因数的低温二氧化锗-有机改性硅酸盐复合材料。
2.根据权利要求1所述的具有提高光学三阶非线性品质因数的低温二氧化锗-有机改性硅酸盐复合材料的制备方法,其特征在于:所述的盐酸的质量浓度为37%。
3.根据权利要求1所述的具有提高光学三阶非线性品质因数的低温二氧化锗-有机改性硅酸盐复合材料的制备方法,其特征在于:所述的光功能染料小分子为分散红。
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