[发明专利]一种通用组合射流喷嘴无效
| 申请号: | 201310720118.7 | 申请日: | 2013-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN103691585A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
| 发明(设计)人: | 董亚洲;刘伟嵬;张洪潮 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
| 主分类号: | B05B1/02 | 分类号: | B05B1/02 |
| 代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 侯明远 |
| 地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 通用 组合 射流 喷嘴 | ||
技术领域
本发明属于射流技术领域,涉及到一种通用组合射流喷嘴装置,特别涉及到通用组合射流喷嘴的组合结构及装配和使用方法。
背景技术
喷嘴广泛应用于水射流、磨料射流等领域。现在工业中应该的主要是圆形喷嘴,制造方法主要是采用机加工或整体铸造,而这些制造方法对于复杂内腔形状的喷嘴不适用,因此制约了喷嘴的使用范围。现在为了延长喷嘴的使用寿命,新型喷嘴基本都采用新型复合材料进行制造,这样就增加了喷嘴的制造成本,在使用过程中喷嘴会产生磨损,对于整体制造的喷嘴只能废弃,造成了资源的浪费。由此可见,采用新型的喷嘴制作方法至关重要。
中国发明专利授权公开号CN202683997U提出了一种组合喷嘴,该专利实现了复杂内腔喷嘴的制作,降低了喷嘴的制造难度和制造成本。但是该组合喷嘴只由两个分体结构组合形成一个弧形喷嘴,主要是应用于制带设备中,适用范围比较小。另外,该喷嘴为非对称结构,分体结构的互换性差,喷嘴形成的射流也是非对称的,对于射流的使用效果会产生一定影响。
发明内容
本发明的目的是提供一种通用组合射流喷嘴,要解决的技术问题是降低喷嘴的制造成本和复杂喷嘴的制造难度,降低喷嘴使用成本。
本发明的技术方案是:一种通用组合射流喷嘴,包括喷嘴套1,喷嘴分体结构A2,喷嘴分体结构B3,喷嘴分体结构C4,喷嘴分体结构D5。
喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5为旋转对称结构,可以互换使用,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5拼装成圆柱形喷嘴,通过过盈配合装入喷嘴套1,喷嘴入口锥形角度为15°,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5长度与喷嘴套1内孔深度相等,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5拼装成的圆柱形喷嘴出口端端面与喷嘴套1挡边的内侧面配合。喷嘴套1采用尼龙材料制造,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5采用碳化硼材料制造。
本发明的效果和益处是:通过分体组合结构降低了复杂形状喷嘴的整体制造难度和制造成本,为制作各种形状复杂的喷嘴提供可能性,提高了射流喷嘴的使用范围。喷嘴采用新型材料制造,具有耐腐蚀、耐磨等良好的综合性能。同时由于喷嘴是分体结构,当喷嘴产生不均匀磨损时,可以通过更换磨损严重的分体结构,重新组装后再次使用,提高了喷嘴分体结构的利用率,降低了喷嘴的整体使用成本。
附图说明
附图1是通用组合射流喷嘴结构示意图。
附图2是通用组合射流喷嘴剖面示意图。
附图3是通用组合喷嘴出口端示意图。
附图4是喷嘴分体结构示意图。
图中:1喷嘴套;2喷嘴分体结构A;3喷嘴分体结构B;4喷嘴分体结构C;5喷嘴分体结构D。
具体实施方式
以下结合技术方案和附图详细叙述本发明的具体实施方式。
参照附图1,此通用组合射流喷嘴包括:1喷嘴套,2喷嘴分体结构A,3喷嘴分体结构B,4喷嘴分体结构C,5喷嘴分体结构D。
喷嘴套1采用尼龙材料注塑成型,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5采用碳化硼材料铸造。使用过程中,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5结构相同,可以互换使用,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5拼装成圆柱形喷嘴,通过过盈配合装入喷嘴套1,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5长度与喷嘴套1内孔深度相等,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5拼装成的圆柱形喷嘴,然后压入喷嘴套1,出口端端面与喷嘴套1挡边的内侧面配合。在使用一段时间后,喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5会产生一定程度的磨损,根据磨损的程度的不同判定喷嘴分体结构A2、喷嘴分体结构B3、喷嘴分体结构C4、喷嘴分体结构D5是否能继续使用,对于不能继续使用的分体结构进行更换,可以继续使用的分体结构与新的分体结构组合装配后继续使用。
以上所述方形组合喷嘴仅为本发明的较佳实施例,并不仅限于本发明,凡在本发明的原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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