[发明专利]一种电容器用金属化基材薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种电容器用金属化基材薄膜，其特征在于，由下列重量份的原料制成：茂金属线性低密度聚乙烯200、聚甲基丙烯酸甲酯3-4、聚异丁烯4-5、二甲基苯并恶唑1-2、苯甲酸钠1-2、苯丙三氮唑1-2、明矾2-3、助剂5-6；

所述助剂由下列重量份的原料制成：茂金属线性低密度聚乙烯12-15、硅烷偶联剂KH-550 1-2、2，6- 二叔丁基对甲酚1-2、椴木灰烬1-2、当归油1-2；制备方法是将茂金属线性低密度聚乙烯加热至熔融状态，加入其它成分，搅拌分散均匀，冷却，造粒，即得。

2.根据权利要求1所述电容器用金属化基材薄膜，其特征在于，由以下具体步骤制成：

（1）将茂金属线性低密度聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚异丁烯、二甲基苯并恶唑加热熔融，再加入助剂以及其余剩余成分充分搅拌，送入挤出机熔融、过滤，然后再通过挤出机挤出片状熔体，过滤>1200目，所述挤出机的温度为220-260℃；

（2）将步骤（1）制成的片状熔体通过激冷辊及风淋室冷却定型后制得铸片，依次进行纵向拉伸、横向拉伸、粗化面电晕处理；

（3）收卷、第一次时效处理、第二次时效处理；

（4）真空蒸发金属化膜，粗化面形成金属化层。