[发明专利]包括在器件上组装的分立天线的封装结构在审
申请号: | 201310704018.5 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN103887186A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | T·喀姆盖恩;V·拉奥;O·迪加尼 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L23/31 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张东梅 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 器件 组装 分立 天线 封装 结构 | ||
1.一种形成封装结构的方法,包括:
在器件的背面形成分立的天线,其中,所述分立的天线包括天线衬底;
穿过所述天线衬底,形成穿过天线衬底的通孔,其中,所述穿过天线衬底的通孔垂直地设置成穿过所述天线衬底;
将所述穿过天线衬底的通孔与垂直地设置于所述器件内的穿过衬底的通孔耦合;以及
将所述器件与封装衬底耦合。
2.如权利要求1所述的方法,还包括形成与所述穿过天线衬底的通孔垂直耦合并设置于所述分立的天线的顶部部分的辐射元件。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述天线衬底包括导电材料和介电材料的交替层。
4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述辐射元件包括导电材料和介电材料的交替层。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述天线衬底包括玻璃、无掺杂的硅和液晶聚合物中的至少一种。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述穿过天线衬底的通孔通过导电结构和金属与金属的接合中的一种来耦合到所述穿过衬底的通孔。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述天线衬底包括至少大约30GHz的频率。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,耦合到所述穿过衬底的通孔的所述穿过天线衬底的通孔能够传播毫米波信号。
9.如权利要求1所述的方法,还包括在所述分立的天线的底部部分上形成接地天线触点。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述接地天线触点耦合到垂直地设置于所述器件中的接地的穿过衬底的通孔。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述器件包括其中包括毫米波无线电的芯片上的系统。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述器件的有源面通过直接金属与金属接合和通过焊球点中的一种来与封装衬底耦合。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述封装衬底包括多层封装衬底。
14.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述封装衬底包括BBUL封装衬底,其中,所述器件部分地嵌入在所述BBUL封装衬底内。
15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分立的天线包括小于器件能够在其内操作的频率范围的物理尺寸。
16.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述接地的穿过衬底的通孔与所述穿过衬底的通孔相邻。
17.如权利要求1所述的方法,还包括在所述器件上形成多个分立的天线。
18.如权利要求1所述的方法,其特征在于,第二器件层叠在所述器件上,并与所述分立的天线相邻。
19.如权利要求18所述的方法,还包括形成辐射屏蔽层以包围所述器件和所述第二器件。
20.如权利要求18所述的方法,其特征在于,所述第二器件包括存储器件。
21.一种封装结构,包括:
设置于第一器件的背面的分立的天线,其中,所述分立的天线包括天线衬底;
穿过天线衬底的通孔,其中,所述穿过天线衬底的通孔垂直地设置成穿过所述天线衬底;
垂直地设置于所述第一器件内并与所述穿过天线衬底的通孔耦合的穿过衬底的通孔;以及
与所述第一器件的有源面耦合的封装衬底。
22.如权利要求21所述的封装结构,还包括与所述穿过天线衬底的通孔垂直耦合并设置于所述分立的天线的顶部部分上的辐射元件。
23.如权利要求21所述的封装结构,其特征在于,所述天线衬底包括玻璃、无掺杂的硅和液晶聚合物中的至少一种。
24.如权利要求21所述的封装结构,其特征在于,所述天线衬底包括导电材料和介电材料的交替层。
25.如权利要求22所述的封装结构,其特征在于,所述辐射元件包括导电材料和介电材料的交替层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310704018.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种压缩机电机引出线塑壳
- 下一篇:一种MWD钻井液式正脉冲发生器转子磁钢
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造