[发明专利]薄膜沉积装置

说明书

本发明涉及薄膜沉积装置，更详细的说根据沉积物质的蒸发，在基板形成薄膜的薄膜沉积装置。本发明公开了薄膜沉积装置的特征在于，根据薄膜沉积装置，包括：工序腔室；一个以上的蒸发源，使沉积物质蒸发，使搬运至所述工序腔室的基板上沉积薄膜；与一个以上的开关板，屏蔽在所述蒸发源蒸发的沉积物质，所述开关板，包括：基座部，沉积蒸发的沉积物质；至少一个热屏蔽部件，层叠在所述基座部上部，屏蔽在所述蒸发源蒸发沉积物质时发生的热辐射。

技术领域

本发明涉及薄膜沉积装置，更详细的说根据沉积物质的蒸发，在基板形成薄膜的薄膜沉积装置。

背景技术

平板显示元件(Flat Panel Display)，代表性的有液晶显示元件(LiquidCrystal Display)、等离子显示元件(Plasma Display Panel)、有机发光元件(OrganicLight Emitting Diodes)等。

其中，有机发光元件具有快速的应答速度，具有比现有液晶显示元件低的消耗电力、高辉度、轻量性等特性，并且具有无需另外的背光(back light)装置、制作超薄型等的优点，作为新一代显示元件正在受到各界瞩目。

另一方面，在平板显示元件的基板形成薄膜的一般方法，有如同蒸发沉积方法(Evaporation)、离子镀方法(Ion-plating)及溅镀方法(Sputtering)的物理性沉积方法(PVD)，及根据气体反应的化学气相沉积方法(CVD)等。其中，如同有机发光元件的有机物层、无机物层等在形成薄膜可使用蒸发沉积法。

在平板显示元件的基板形成薄膜的方法中，根据薄膜沉积装置执行蒸发沉积方法，所述薄膜沉积装置包括形成封闭的处理空间的工序腔室，与设置在工序腔室下部的蒸发待沉积物质的蒸发源。

在这里，蒸发源为加热装在坩埚的沉积物质使其持续蒸发，在基板处理面沉积薄膜。尤其是，蒸发源若开始沉积物质的蒸发，直到坩埚内的沉积物质耗尽为止持续加热

一方面，所述薄膜沉积装置完成对基板的薄膜沉积工序后，应更换新的基板，但是在蒸发源仍持续蒸发沉积物质。

因此，完成基板处理的基板与待基板处理基板的更换过程，根据沉积物质的持续蒸发，在完成基板处理的基板及待基板处理的基板存在沉积物质的不稳定沉积的问题。

尤其是，使基板在工序腔室内旋转的同时执行薄膜沉积工序的情况，在更换基板时，停止旋转基板更换新基板，此时在更换基板过程中，根据沉积物质的蒸发，在完成基板处理的基板及待处理基板进行沉积物质的不稳定沉积可造成基板不良。

因此，传统薄膜沉积装置根据开关板分别屏蔽蒸发源，屏蔽蒸发源向基板蒸发，或包括区划定位基板的处理领域与设置蒸发源的蒸发领域，并且形成连通处理领域及蒸发领域的开口部的区划部，与根据移动开关板区划部的开口部的开关，屏蔽沉积物质向基板蒸发。

但是，传统薄膜沉淀装置为了屏蔽蒸发沉积物质的开关板，从高温的蒸发源辐射热而被加热，并且加热的开关板重新将热传达至基板等，具有作用为基板处理不良原因的问题。

另外，根据蒸发源的热辐射加热开关板发生热变形，不能圆滑的屏蔽沉积物质，或移动时由于与其他部件的摩擦，而作用为发生离子的原因等，存在作用为基板处理不良原因的问题。

另一方面，如上所述在传统上为了防止开关板的温度上升，提出了利用冷却水降低开关板温度的方法，但是此时为了利用冷却水而增加装置构成，存在构造复杂且增加制造费用的问题。

发明内容

(要解决的课题)

本发明目的在于，为解决如上所述的问题，提供的薄膜沉积装置为，根据简单的开关板构造，有效屏蔽在蒸发源辐射的热，可最小化热变形。(课题的解决方法)