[发明专利]薄膜沉积装置

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置，包括：工序腔室；一个以上的蒸发源，使沉积物质蒸发，使搬运至所述工序腔室的基板上沉积薄膜；一个以上的开关板，屏蔽所述蒸发源蒸发的沉积物质，其特征在于，

所述开关板，包括：基座部，沉积蒸发的沉积物质；至少一个热屏蔽部件，层叠在所述基座部上部，屏蔽在所述蒸发源蒸发沉积物质时发生的热辐射。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述基座部与所述热屏蔽部件之间，配置使所述基座部与所述热屏蔽部件相互隔离的间隔维持部件。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述热屏蔽部件在所述基座部的上部层叠多个时，在所述热屏蔽部件之间，配置使所述热屏蔽部件分别相互隔离的间隔维持部件。

4.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

分别在所述基座部与所述热屏蔽部件之间及所述热屏蔽部件之间配置多个间隔维持部件，并且相邻接的所述间隔维持部件之间以相互不同的方向配置。

5.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述间隔维持部件的至少一面焊接在所述基座部或所述热屏蔽部件。

6.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

在所述基座部配置凸肋；所述凸肋为防止所述热屏蔽部件由于所述蒸发源发生的热辐射的热变形。

7.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

分别焊接所述热屏蔽部件的侧面以固定所述热屏蔽部件的位置。

8.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述基座部与所述至少一个的热屏蔽部件，由贯通所述基座部与所述至少一个的热屏蔽部件的固定部件固定。

9.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述开关板，还包括在最上层的所述热屏蔽部件上部层叠的覆盖部。

10.根据权利要求9所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述基座部与所述覆盖部，各个的侧面由侧面覆盖部部件焊接或固定。

11.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述基座部为，Ti、Ta及铬镍铁合金中任意一种的材质。

12.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述热屏蔽部件为，不锈钢、Ti、钽、AlN、热解氮化硼及钨中任意一种材质。

13.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述基座部及所述热屏蔽部件中，至少对其中一个镜面处理而使其底面反射热。

14.根据权利要求1至13任一所述的薄膜沉积装置，其特征在于，还包括冷却部，

在执行在基板沉积沉积物质的沉积工序时，冷却所述开关板。

15.根据权利要求14所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述冷却部通过引导所述开关板移动的引导部件冷却所述开关板，或所述开关板位于不屏蔽沉积物质的开放位置时，通过接触及辐射中任意一种热传导使所述开关板冷却。

16.根据权利要求15所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述工序腔室，

设置空间区划部，区划处理空间为定位基板的处理领域和设置有所述蒸发源的蒸发领域，连通所述处理领域及所述蒸发领域形成的开口部，

所述开口部，由一个以上的所述开关板进行开关。