[发明专利]透光设备及具有所述透光设备的退火设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种退火设备。尤其涉及一种透光(light penetration)设备及具有所述透光设备的退火设备，在所述透光设备中，激光束可穿透的透射窗(transmission window)可固定而无破损。

背景技术

薄膜晶体管(TFT)被用作用于独立地驱动显示装置中的像素中的每一者的电路，显示装置例如液晶显示器(LCD)或有机电致发光(Electro Luminescence；EL)。此薄膜晶体管包括栅极电极、主动层(active layer)、源极电极及栅极绝缘膜。

在此薄膜晶体管中，主动层充当栅极电极与源极/漏极电极之间的通道。已使用非晶硅或结晶硅来形成此主动层。然而，非晶硅在制造大屏幕液晶显示器时具有许多限制，这是因为非晶硅具有低的电子迁移率。因此，近来的研究注重于开发出使用结晶硅来形成主动层的方法。直接气相沉积结晶硅以及气相沉积非晶硅之后接着结晶化被用作形成结晶硅的方法。

顺序横向凝固(sequential lateral solidification；SLS)及准分子激光退火(excimer laser annealing；ELA)被用作使非晶硅结晶的方法。在SLS方法中，晶体可通过派生横向生长(deriving lateral growth)经形成为大致单晶体，且电子迁移率变大。SLS方法的劣势在于：经辐照激光束具有高能源依存性而减小工艺裕度(process margin)，且工艺很大程度上受平台(stage)的精度影响，衬底安置(seat)在所述平台上而在整个衬底上得到非均匀结果。在ELA方法中，准分子激光经瞬间辐照，使得非晶硅被加热到约1400℃以派生结晶及垂直生长。ELA方法与SLS方法相比较具有不良的结晶性质，但可获得衬底上的均匀结果。因此，作为用于大量生产的方法而积极地研究ELA。此外，在第10-0908325号KR专利中例示了激光加工方法。

为了使用ELA方法使非晶硅结晶，从提供于腔室之外的激光辐照装置将激光辐照于腔室内的衬底上。即，衬底置于腔室内，腔室在其上部部分上具有开口，透光设备紧密地耦合到所述开口，且从外部经由透光设备将激光辐照于腔室内。并且，透光设备具有提供于透射窗上的框架，且框架使用多个夹钳(clamps)将压力施加到多个区域以固定透射窗。

然而，因为常规夹钳使用螺栓(bolts)施加压力，所以无法控制透射窗的紧固强度，即螺栓的夹紧强度。因此，透射窗可能受到损坏。即，归因于螺栓的夹紧力，框架将过度高于拧紧强度的压力施加到透射窗，从而导致对应区域中的透射窗的破损。

发明内容

技术问题

本发明的目标为提供一种能够防止由夹钳造成透射窗破损的透光设备，以及一种具有所述透光设备的退火设备。

本发明的目标为提供一种能够通过抑制夹钳的过度夹紧而防止透射窗破损的透光设备，以及一种具有所述透光设备的退火设备。

技术解决方案

根据一个方面，一种透光设备包括：光可穿透的透射窗(transmission window transparent to light)；提供于所述透射窗的边缘上的框架；以及多个夹钳，其用于将压力施加到所述框架以紧密地固定所述透射窗；其中所述夹钳包括本体、插入于所述本体中的弹性部件及经由所述弹性部件穿过所述本体且从所述本体的下端突出的紧固件部件，且所述弹性部件将由所述紧固件部件所施加的压力控制在所要范围内。

所述框架包括提供于所述透射窗的下部部分中的下部框架，以及提供于所述透射窗的上部部分中的上部框架。

至少一缓冲部件进一步提供于所述下部框架及上部框架与所述透射窗之间。

所述夹钳进一步包括从所述本体的上部部分的部分延伸且与所述上部框架接触的延伸部分。

外壳经进一步提供以容纳所述框架及所述透射窗于其中，且所述夹钳提供于所述外壳上以插入并耦合到所述外壳上的孔中。

根据另一方面，一种退火设备包括：具有内部空间的腔室；衬底移动单元，其提供于所述腔室的内部下部部分中以使衬底在所要方向上移动；以及透光单元，其提供于所述腔室的外部上部部分中以透射从外部辐照的光，使得所述光辐照于所述衬底上；其中所述透光单元包括多个夹钳，所述夹钳用于将压力施加到提供于光可穿透的透射窗的边缘上的框架以紧密地固定所述透射窗，所述夹钳包括本体、插入于所述本体中的弹性部件及经由所述弹性部件穿过所述本体且从所述本体的下端突出的紧固件部件，且所述弹性部件将由所述紧固件部件所施加的压力控制在所要范围内。